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J-GLOBAL ID:200903070965617101
DNA分析方法および分析装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
平木 祐輔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007077294
Publication number (International publication number):2008233050
Application date: Mar. 23, 2007
Publication date: Oct. 02, 2008
Summary:
【課題】測定対象を高集積化しても感度が低下しないDNA分析方法およびDNA分析システムを提供する。【解決手段】dATP溶液容器106,dTTP溶液容器107,dGTP溶液容器108,dCTP溶液容器109のいずれかから供給されるdATPもしくはdTTPもしくはdGTPもしくはdCTPにより引き起こされるビーズ118表面に固定された二本鎖DNAの伸長反応を,二本鎖DNAの伸長反応により生成するピロリン酸を反応溶液容器105内の反応溶液に含まれている試薬と酵素によって酸化還元物質に変換し,生成した酸化還元物質が絶縁性分子を介して電気化学活性物質が固定された測定電極119の表面電位の変化を引き起こすことによって,測定電極119と電気的に接続された電界効果トランジスタ120のドレイン電流値の変化として計測する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
プローブとハイブリダイズした試料核酸を用意する工程と,
核酸基質とポリメラーゼを用いて前記プローブの伸長反応を行う工程と,
前記伸長反応で生じるピロリン酸を酸化還元物質に変換する工程と,
前記酸化還元物質を電気的に検出する検出工程と
を有するDNA分析方法。
IPC (2):
FI (2):
G01N27/30 301Y
, C12Q1/68 A
F-Term (20):
4B024AA11
, 4B024CA01
, 4B024CA09
, 4B024CA11
, 4B024CA20
, 4B024HA12
, 4B024HA14
, 4B063QA01
, 4B063QA18
, 4B063QQ42
, 4B063QQ52
, 4B063QR08
, 4B063QR32
, 4B063QR35
, 4B063QR55
, 4B063QR62
, 4B063QS25
, 4B063QS32
, 4B063QS34
, 4B063QX02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (10)
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ターゲット核酸断片の検出方法及びターゲット核酸断片の検出キット
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-183494
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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表面電位測定型センサー装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-237173
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
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新規なDNAチップ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-563632
Applicant:ニュクレイカ
-
DNA配列の解析のための化学的方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平5-519892
Applicant:セミュ・バイオテクニク・アーベー
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DNA分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-232137
Applicant:株式会社日立製作所
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バイオマスの検出および測定のための方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2002-527296
Applicant:メルクパテントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフトング
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検定の計時を開始する受動式サンプル検出
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-357077
Applicant:ライフスキャン・インコーポレイテッド
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遺伝子検出電界効果デバイスおよびこれを用いた遺伝子多型解析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-026821
Applicant:独立行政法人物質・材料研究機構
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特開昭54-061984
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電位差式センサ及び分析用素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-313876
Applicant:株式会社日立製作所
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Article cited by the Patent:
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