Pat
J-GLOBAL ID:200903073787604695
ダイヤモンドライクカーボン多層膜
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
本田 ▲龍▼雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001126827
Publication number (International publication number):2002322555
Application date: Apr. 25, 2001
Publication date: Nov. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】 耐摩耗性に優れ、しかも摩擦係数が低く、優れた摺動特性を有するダイヤモンドライクカーボン多層膜を提供する。【解決手段】 膜密度の低いダイヤモンドライクカーボンで形成された低密度炭素層4と、膜密度の高いダイヤモンドライクカーボンで形成された高密度炭素層5とが交互に積層される。前記低密度炭素層4は平均の膜密度が2.2g/cm3以下であり、一方前記高密度炭素層5は平均の膜密度が2.3〜3.2g/cm3である。前記高密度炭素層5は膜中に含まれる水素成分が5at%以下である。前記低密度炭素層4の層厚T1は0.4〜30nmであり、前記高密度炭素層5の層厚T2は0.4〜10nmであり、T1/T2が5〜0.2とされる。
Claim (excerpt):
膜密度の低いダイヤモンドライクカーボンで形成された低密度炭素層と、膜密度の高いダイヤモンドライクカーボンで形成された高密度炭素層とが交互に積層されたダイヤモンドライクカーボン多層膜であって、前記低密度炭素層は平均の膜密度が2.2g/cm3以下であり、一方前記高密度炭素層は平均の膜密度が2.3〜3.2g/cm3であり、前記高密度炭素層は膜中に含まれる水素成分が5at%以下であり、前記低密度炭素層の層厚が0.4〜30nmであり、前記高密度炭素層の層厚が0.4〜10nmであり、前記低密度炭素層の層厚T1と高密度炭素層の層厚T2の比T1/T2が5〜0.2である、ダイヤモンドライクカーボン多層膜。
IPC (2):
C23C 14/06
, C01B 31/02 101
FI (2):
C23C 14/06 F
, C01B 31/02 101 Z
F-Term (12):
4G046CB03
, 4G046CB08
, 4G046CC06
, 4K029AA02
, 4K029AA06
, 4K029BA17
, 4K029BA34
, 4K029BB02
, 4K029BD03
, 4K029BD04
, 4K029CA05
, 4K029EA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (13)
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高SP3内容を有する第1炭素被膜と低SP3内容を有する第2炭素被膜とを含む磁気ディスク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-192251
Applicant:コマッグ・インコーポレイテッド
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薄膜磁気ヘッド及び磁気ディスク記録再生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-280763
Applicant:株式会社日立製作所
-
無定形炭素膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-207755
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
ダイヤモンド様薄膜の保護膜付き物品
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-308264
Applicant:テイーデイーケイ株式会社
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ダイヤモンド状硬質カーボンフィルムが二重コーティングされたVTRヘッドドラムとそのコーティング層の形成方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-185474
Applicant:財団法人韓国科学技術研究院
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硬質炭素被膜及びその形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-095514
Applicant:三洋電機株式会社
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磁気記録媒体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-286985
Applicant:富士電機株式会社
-
硬質炭素膜及びその被覆部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-034772
Applicant:住友電気工業株式会社
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非晶質炭素膜が被覆された樹脂基体及び成膜方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-218831
Applicant:旭化成工業株式会社
-
被覆摺動部材およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-240749
Applicant:住友電気工業株式会社
-
硬質炭素膜とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-037241
Applicant:住友電気工業株式会社
-
特開平1-226711
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摺動面部材及びその成膜装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-132814
Applicant:ソニー株式会社
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