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J-GLOBAL ID:200903074011191958
プラズマ処理容器内部材およびその製造方法
Inventor:
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,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
小川 順三 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999351546
Publication number (International publication number):2001164354
Application date: Dec. 10, 1999
Publication date: Jun. 19, 2001
Summary:
【要約】【課題】 耐プラズマエロージョン性に優れるプラズマ処理容器内部材と、その有利な製造方法とを提案する。【解決手段】 基材の表面が、アンダーコートとして形成された金属皮膜と、そのアンダーコート上に中間層として形成された Al2O3皮膜と、そしてその中間層上にトップコートとして形成されたY2O3溶射皮膜とからなる多層状複合層によって被覆されている。
Claim (excerpt):
基材の表面がY2O3溶射皮膜によって被覆されていることを特徴とする、プラズマ処理容器内部材。
IPC (5):
C23C 4/10
, C23C 14/00
, C23C 16/06
, H01L 21/3065
, H01L 21/31
FI (5):
C23C 4/10
, C23C 14/00 C
, C23C 16/06
, H01L 21/31 C
, H01L 21/302 B
F-Term (42):
4K029AA02
, 4K029BA26
, 4K029BC01
, 4K029DA01
, 4K029GA03
, 4K030BA02
, 4K030BA14
, 4K030CA02
, 4K030KA47
, 4K030LA01
, 4K031AA01
, 4K031AA08
, 4K031AB02
, 4K031AB03
, 4K031AB04
, 4K031BA01
, 4K031BA05
, 4K031CB07
, 4K031CB11
, 4K031CB12
, 4K031CB14
, 4K031CB21
, 4K031CB23
, 4K031CB24
, 4K031CB26
, 4K031CB39
, 4K031CB42
, 4K031CB43
, 4K031DA04
, 5F004AA13
, 5F004AA15
, 5F004BC08
, 5F004BD04
, 5F004BD05
, 5F004DA11
, 5F004DA17
, 5F045AA08
, 5F045AA18
, 5F045AA19
, 5F045AC05
, 5F045BB15
, 5F045EB03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
-
真空処理装置用素材及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-197205
Applicant:東京エレクトロン株式会社
-
耐食性部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-201566
Applicant:京セラ株式会社
-
高融点活性金属鋳造用鋳型の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-298365
Applicant:川崎製鉄株式会社
-
耐食性複合部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-207161
Applicant:株式会社日本セラテック, 太平洋セメント株式会社
-
工程の安定性を得るために温度制御を行うホット・ウォール反応性イオン・エッチング
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-048395
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
-
半導体製造用耐食性部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-155798
Applicant:京セラ株式会社
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セラミックコーティング部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-043579
Applicant:東京電力株式会社, 日本碍子株式会社
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