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J-GLOBAL ID:200903074011191958

プラズマ処理容器内部材およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小川 順三 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999351546
Publication number (International publication number):2001164354
Application date: Dec. 10, 1999
Publication date: Jun. 19, 2001
Summary:
【要約】【課題】 耐プラズマエロージョン性に優れるプラズマ処理容器内部材と、その有利な製造方法とを提案する。【解決手段】 基材の表面が、アンダーコートとして形成された金属皮膜と、そのアンダーコート上に中間層として形成された Al2O3皮膜と、そしてその中間層上にトップコートとして形成されたY2O3溶射皮膜とからなる多層状複合層によって被覆されている。
Claim (excerpt):
基材の表面がY2O3溶射皮膜によって被覆されていることを特徴とする、プラズマ処理容器内部材。
IPC (5):
C23C 4/10 ,  C23C 14/00 ,  C23C 16/06 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31
FI (5):
C23C 4/10 ,  C23C 14/00 C ,  C23C 16/06 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B
F-Term (42):
4K029AA02 ,  4K029BA26 ,  4K029BC01 ,  4K029DA01 ,  4K029GA03 ,  4K030BA02 ,  4K030BA14 ,  4K030CA02 ,  4K030KA47 ,  4K030LA01 ,  4K031AA01 ,  4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031AB03 ,  4K031AB04 ,  4K031BA01 ,  4K031BA05 ,  4K031CB07 ,  4K031CB11 ,  4K031CB12 ,  4K031CB14 ,  4K031CB21 ,  4K031CB23 ,  4K031CB24 ,  4K031CB26 ,  4K031CB39 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031DA04 ,  5F004AA13 ,  5F004AA15 ,  5F004BC08 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F004DA11 ,  5F004DA17 ,  5F045AA08 ,  5F045AA18 ,  5F045AA19 ,  5F045AC05 ,  5F045BB15 ,  5F045EB03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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