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J-GLOBAL ID:200903074287795326
プラズマ発生装置及びワーク処理装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
小谷 悦司
, 伊藤 孝夫
, 樋口 次郎
, 平田 晴洋
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006046357
Publication number (International publication number):2007227123
Application date: Feb. 23, 2006
Publication date: Sep. 06, 2007
Summary:
【課題】簡便な構成により複数のプラズマ発生ノズルのうちいずれかのプラズマ発生ノズルの状態を精度良く監視する。【解決手段】マイクロ波発生装置20により発生されたマイクロ波を伝搬する導波管10と、マイクロ波を受信し、受信したマイクロ波のエネルギーに基に、処理ガス供給源921から供給されるガスをプラズマ化して放出するプラズマ発生ノズル31が導波管10に複数個配列して取り付けられたプラズマ発生部30と、プラズマ発生ノズル31から放出されたプルームの画像を撮影する撮影部100と、撮影部100により撮影されたプルームの画像を基に、複数個配列されたプラズマ発生ノズル31のうち、正常な状態のプラズマを放出することができない欠陥ノズルを検出する欠陥ノズル検出部941とを備える。【選択図】図10
Claim (excerpt):
マイクロ波を発生するマイクロ波発生部と、
前記マイクロ波発生部により発生されたマイクロ波を伝搬する導波管と、
プラズマ化されるガスを供給するガス供給部と、
前記マイクロ波を受信し、受信したマイクロ波のエネルギーを基に、前記ガス供給部から供給されるガスをプラズマ化して放出するプラズマ発生ノズルが前記導波管に複数個配列して取り付けられたプラズマ発生部と、
前記プラズマ発生ノズルから放出されるプラズマ化されたガスからなるプルームの画像を撮影する撮影部と、
前記撮影部により撮影されたプルームの画像を表示する状態監視部とを備えることを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (6):
H05H 1/00
, H05H 1/24
, H01L 21/306
, H01L 21/205
, C23C 16/511
, H01L 21/304
FI (6):
H05H1/00 A
, H05H1/24
, H01L21/302 101E
, H01L21/205
, C23C16/511
, H01L21/304 645C
F-Term (27):
4K030CA04
, 4K030CA06
, 4K030FA01
, 4K030GA12
, 4K030JA09
, 4K030KA30
, 4K030KA39
, 4K030LA15
, 4K030LA18
, 5F004AA01
, 5F004AA14
, 5F004BA20
, 5F004BB14
, 5F004BB24
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004CB09
, 5F004CB12
, 5F004CB20
, 5F045AA09
, 5F045BB01
, 5F045EH03
, 5F045EH19
, 5F045GB01
, 5F045GB04
, 5F045GB05
, 5F045GB08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (8)
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半導体基板アッシング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-158279
Applicant:九州日本電気株式会社
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プラズマ加工装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-029633
Applicant:コマツ産機株式会社
-
プラズマ制御方法、及びプラズマ制御装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-345672
Applicant:国立大学法人東北大学
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