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J-GLOBAL ID：200903094724846530

均一でスケーラブルなマイクロ波プラズマ発生を行うためのプラズマノズルアレイ

Inventor：
リー サン ハン

About リー サン ハン

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キム ジェイ ジョンソ

About キム ジェイ ジョンソ


Applicant, Patent owner：
アマランテ テクノロジーズ,インク.

About アマランテ テクノロジーズ,インク.

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ノーリツ鋼機株式会社

About ノーリツ鋼機株式会社


Agent (4)： 小谷 悦司 ,  伊藤 孝夫 ,  樋口 次郎 ,  平田 晴洋
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2007523689
Publication number (International publication number)：2008508683
Application date： Jul. 21, 2005
Publication date： Mar. 21, 2008
Summary：
本発明は、マイクロ波プラズマノズルアレイシステム、およびマイクロ波プラズマノズルアレイを構成するための方法を提供する。マイクロ波は特定の方法でマイクロ波キャビティ(323)へと搬送され、マイクロ波キャビティ(32)内に高エネルギー領域(69)を備える干渉パターン(66)を形成する。高エネルギー領域(69)は、マイクロ波の位相および波長によって制御される。複数のノズル素子(36)がアレイ(37)に設けられている。それぞれのノズル素子(36)は部分的にマイクロ波キャビティ(32)内に配置されている部分(116)を持っており、ガスを受け入れ、そこを通過させる。ノズル素子(36)は高エネルギー領域(69)の1つからマイクロ波エネルギーを受け取る。ノズル素子(36)はそれぞれが、マイクロ波が集中する先端部(117)を持つロッド状コンダクタ(114)を備えており、そして受け入れられたガスを使ってプラズマ(38)が発生される。
Claim (excerpt)：
マイクロ波キャビティ内でマイクロ波同士を干渉させマイクロ波の定在波パターンが静止的に形成されるように、互いに反対方向からマイクロ波をマイクロ波キャビティへ向かわせるステップと、 少なくとも1つのマイクロ波の位相を調整して、マイクロ波の定在波パターンによって発生される高エネルギー領域を制御するステップと、 ノズル素子の1つ以上が高エネルギー領域の1つからマイクロ波エネルギーを受け取るように、ノズルアレイの少なくとも一部を前記マイクロ波キャビティ内に配置するステップと、 を具備することを特徴とするマイクロ波プラズマノズルアレイを構成するための方法。
IPC (1)：
H05H 1/24
FI (1)：
H05H1/24
F-Term (5)：
4C058AA01 ,  4C058BB06 ,  4C058KK06 ,  4C058KK11 ,  4C058KK50
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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