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J-GLOBAL ID：200903074960131478

硫化亜鉛を主成分とするスパッタリングターゲット及び該ターゲットを使用して硫化亜鉛を主成分とする相変化型光ディスク保護膜を形成した光記録媒体並びに該スパッタリングターゲットの製造方法

Inventor：
矢作 政隆

About 矢作 政隆

, 
高見 英生

About 高見 英生


Applicant, Patent owner：
株式会社日鉱マテリアルズ

About 株式会社日鉱マテリアルズ


Agent (1)： 小越 勇 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002036154
Publication number (International publication number)：2003242684
Application date： Feb. 14, 2002
Publication date： Aug. 29, 2003
Summary：
【要約】【課題】 スパッタリングによって膜を形成する際に、スパッタ時に発生するパーティクルやノジュールを低減し、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができ、かつ結晶粒が微細であり90%以上の高密度を備えた硫化亜鉛を主成分とするスパッタリングターゲット及び該ターゲットを使用して硫化亜鉛を主成分とする相変化型光ディスク保護膜を形成した光記録媒体並びに該ターゲットの製造方法を得る。【解決手段】 硫化亜鉛を主成分とし、さらに導電性酸化物を含有することを特徴とする膜の屈折率を2.0〜2.6の範囲に調整できるスパッタリングターゲット及び該ターゲットを使用して硫化亜鉛を主成分とする相変化型光ディスク保護膜を形成した光記録媒体。
Claim (excerpt)：
硫化亜鉛を主成分とし、さらに導電性酸化物を含有することを特徴とする膜の屈折率を2.0〜2.6の範囲に調整できるスパッタリングターゲット及び該ターゲットを使用して硫化亜鉛を主成分とする相変化型光ディスク保護膜を形成した光記録媒体。
IPC (5)：
G11B 7/24 534 ,  G11B 7/24 535 ,  C04B 35/547 ,  C23C 14/34 ,  G11B 7/26 531
FI (5)：
G11B 7/24 534 N ,  G11B 7/24 535 C ,  C23C 14/34 A ,  G11B 7/26 531 ,  C04B 35/00 T
F-Term (33)：
4G030AA01 ,  4G030AA05 ,  4G030AA17 ,  4G030AA20 ,  4G030AA32 ,  4G030AA34 ,  4G030AA35 ,  4G030AA36 ,  4G030AA37 ,  4G030AA38 ,  4G030AA39 ,  4G030AA41 ,  4G030AA42 ,  4G030AA56 ,  4G030BA02 ,  4G030BA15 ,  4G030GA04 ,  4G030GA22 ,  4G030GA24 ,  4G030GA29 ,  4K029BA51 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  5D029JB18 ,  5D029LA17 ,  5D029LC06 ,  5D121AA04 ,  5D121EE03 ,  5D121EE09 ,  5D121EE11 ,  5D121EE14
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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