ウエーハの評価方法及び装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：石原詔二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002369802
Publication number (International publication number)：2004193529
Application date： Dec. 20, 2002
Publication date： Jul. 08, 2004
Summary：

【課題】どんな種類の欠陥や異物がウエーハ表面上に存在し、各欠陥や異物がどのようにウエーハ表面上に分布しているかを効果的に検出及び識別することのできるウエーハの評価方法及び装置を提供する。【解決手段】検査対象ウエーハである試料の表面をコンフォーカル光学系による光学的走査装置によって検査し、該検査によって検出された該試料表面上の欠陥や異物をその種類別に識別し、該識別された欠陥や異物の位置を各欠陥や異物の種類別を示す記号によって該試料に対応するウエーハ画面上に出力表示するようにした。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

検査対象ウエーハである試料の表面をコンフォーカル光学系による光学的走査装置によって検査し、該検査によって検出された該試料表面上の欠陥や異物をその種類別に識別し、該識別された欠陥や異物の位置を各欠陥や異物の種類別を示す記号によって該試料に対応するウエーハ画面上に出力表示するようにしたことを特徴とするウエーハの評価方法。

IPC (2)：

H01L21/66 , H01L21/02

FI (2)：

H01L21/66 J , H01L21/02 Z

F-Term (8)：

4M106AA01 , 4M106BA04 , 4M106CA39 , 4M106CA41 , 4M106DB08 , 4M106DB18 , 4M106DJ20 , 4M106DJ23

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

部品検査システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-307104 Applicant：日本電子株式会社, 日本電子システムテクノロジー株式会社
パターン欠陥検査装置及びパターン欠陥検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-188558 Applicant：株式会社日立製作所
レーザ顕微鏡及びこのレーザ顕微鏡を用いたパターン検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-088116 Applicant：レーザーテック株式会社

Show all

Return to Previous Page