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J-GLOBAL ID:200903075704382737
高分子膜の体積膨張に伴うストレス変化を利用した湿度センサー
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005104023
Publication number (International publication number):2006284343
Application date: Mar. 31, 2005
Publication date: Oct. 19, 2006
Summary:
【課題】 高分子膜を利用した小型化が可能な湿度センサーを提供する。【解決手段】 アリルアミン高分子膜に生ずる湿度依存性の体積膨張を利用した湿度センサーであって、湿度下における前記アリルアミン高分子膜の体積膨張に伴うストレスを測定し、湿度に換算することを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
アリルアミン高分子膜に生ずる湿度依存性の体積膨張を利用した湿度センサーであって、湿度下における前記アリルアミン高分子膜の体積膨張に伴うストレスを測定し、湿度に換算することを特徴とする湿度センサー。
IPC (1):
FI (1):
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
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高分子湿度センサーおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-221985
Applicant:ティーディーケイ株式会社
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高分子感湿材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-373848
Applicant:住友ベークライト株式会社
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ピロール系高分子フィルムまたは繊維の高感度伸縮方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-132955
Applicant:功刀利夫
Cited by examiner (11)
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特開昭59-067445
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特開昭62-177433
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自己組織単分子膜、自己組織単分子膜構成体、ステンシルマスクと、このステンシルマスクを用いた微細加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-140816
Applicant:独立行政法人物質・材料研究機構
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光ヘッド
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-076956
Applicant:株式会社日立製作所
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梁構造体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-207092
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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ナノ構造化基体の光学的画像化
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2003-578914
Applicant:ウイスコンシンアラムニリサーチファンデーション
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特開平2-212744
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走査型プローブ顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-167998
Applicant:セイコーインスツルメンツ株式会社
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カンチレバー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-233074
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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特開昭62-294939
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ポリマーシート、製造方法、加工方法、取扱い方法、使用方法及び加工器具
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-170461
Applicant:全国社会福祉データバンク株式会社
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