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J-GLOBAL ID:200903076276972709

構造物の背面における地盤改良構造

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 佐々木 功 ,  川村 恭子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004261783
Publication number (International publication number):2006077443
Application date: Sep. 09, 2004
Publication date: Mar. 23, 2006
Summary:
【課題】 裏込土を経済的に改良した液状化防止および吸出防止ができる構造物の背面における地盤改良構造を提供することである。【解決手段】 構造物の背面における地盤改良構造1は、構造物の裏側に裏込土5を改良した固化体7が形成され、この固化体7は内側の未改良土8を外側の改良土9で覆ったものであり、前記固化体7は、構造物から裏側に向かって下り傾斜に形成された裏込石層4の傾斜面に沿った形状である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
構造物の裏側に裏込土を改良した固化体が形成され、この固化体は内側の未改良土が外側の改良土で覆われ、かつ固化体は原地盤と接触した底部を備えたことを特徴とする構造物の背面における地盤改良構造。
IPC (1):
E02B 3/12
FI (1):
E02B3/12
F-Term (6):
2D118AA05 ,  2D118BA01 ,  2D118CA03 ,  2D118FA06 ,  2D118FB12 ,  2D118GA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 裏込土の吸出防止工法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-197305   Applicant:独立行政法人港湾空港技術研究所, 善功企, 五洋建設株式会社
Cited by examiner (9)
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