液晶パネル用基板の洗浄方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：大谷保
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998344652
Publication number (International publication number)：2000171985
Application date： Dec. 03, 1998
Publication date： Jun. 23, 2000
Summary：

【要約】【課題】液晶パネル用基板を効率よく洗浄する方法を提供すること。【解決手段】ガラス基板上に導電薄膜を形成し、次いで該導電薄膜上に所定のパターンをレジストで形成し、これをエッチングレジストとして前記導電薄膜の不要部分をドライエッチング除去し、さらに必要に応じて灰化処理を行い、しかる後にドライエッチング時に発生した導電薄膜に由来する残渣物を、酸化剤とキレート剤とからなる洗浄剤で除去して液晶パネル用基板を洗浄する方法である。

Claim (excerpt)：

ガラス基板上に導電薄膜を形成し、次いで該導電薄膜上に所定のパターンをレジストで形成し、これをエッチングレジストとして前記導電薄膜の不要部分をドライエッチング除去し、しかる後にドライエッチング時に発生した導電薄膜に由来する残渣物を、酸化剤とキレート剤とからなる洗浄剤により除去することを特徴とする液晶パネル用基板の洗浄方法。

IPC (2)：

G03F 7/40 521 , G03F 7/42

FI (2)：

G03F 7/40 521 , G03F 7/42

F-Term (6)：

2H096AA27 , 2H096CA01 , 2H096CA05 , 2H096CA20 , 2H096HA23 , 2H096HA30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

新規な表面処理方法及び処理剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-027496 Applicant：和光純薬工業株式会社
表面処理組成物及び表面処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-056087 Applicant：三菱化学株式会社
基体の表面処理方法及びそれに用いる有機錯化剤含有アンモニア水溶液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-167183 Applicant：三菱化学株式会社

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