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J-GLOBAL ID：200903081014694043

露光装置及び半導体装置の製造方法

Inventor： 武内 顕一
Applicant, Patent owner： 宮崎沖電気株式会社 ,  沖電気工業株式会社
Agent (1)： 大西 健治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999107456
Publication number (International publication number)：2000299274
Application date： Apr. 15, 1999
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：

【要約】【解決手段】 本発明は、照明光学系からの光を絞って細長いスリット光とするスリットと、転写パターンを有し、スリット光を受け取り転写パターンに対応した光にするマスクを、光軸と垂直方向に移動自在に支持するマスクステージと、マスクからの光を縮小する縮小投影レンズと、縮小投影レンズからの光を拡張するビームエキスパンダと、ビームエキスパンダからの光を半導体球上に集光させる集光ミラーと、半導体球を回転可能に支持する手段とを有することを特徴とする。【効果】 本発明では、シリコン球に対するミラーの位置決めが容易となる。また転写パターンを連続的に形成できるので、ICを微細化する上で利点が高い露光装置を提供できる。

Claim (excerpt)：

照明光学系からの光を絞って細長いスリット光とするスリットと、転写パターンを有し、前記スリット光を受け取り前記転写パターンに対応した光にするマスクを、光軸と垂直方向に移動自在に支持するマスクステージと、前記マスクからの光を縮小する縮小投影レンズと、前記縮小投影レンズからの光を拡張するビームエキスパンダと、前記ビームエキスパンダからの光を半導体球上に集光させる集光ミラーと、前記半導体球を回転可能に支持する手段とを有する露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/24

FI (2)：

H01L 21/30 514 C ,  G03F 7/24 H

F-Term (13)：

5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB02 ,  5F046CB03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB12 ,  5F046CB23 ,  5F046CB27 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC13 ,  5F046CC15 ,  5F046CC20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 柱状デバイス及び露光装置及びデバイス製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-057607   Applicant：キヤノン株式会社
• 球状ICの露光方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-209476   Applicant：株式会社三井ハイテック
• 球状デバイス露光装置及び製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-057609   Applicant：キヤノン株式会社
• 露光装置及び方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-203218   Applicant：キヤノン株式会社
• 非平面露光ビームリトグラフィーを用いてミクロ構造体を製作する方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-012968   Applicant：サーコスグループ
• マスクパターンデータ作成装置及びその作成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-366298   Applicant：ボールセミコンダクターインコーポレイテッド, 株式会社川口光学産業
• 球状デバイス露光装置及び製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-101761   Applicant：キヤノン株式会社