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J-GLOBAL ID:200903086454798837

スズ-銅含有合金メッキ浴、スズ-銅含有合金メッキ方法及びスズ-銅含有合金メッキ皮膜が形成された物品

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三枝 英二 (外8名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000268551
Publication number (International publication number):2001164396
Application date: Sep. 05, 2000
Publication date: Jun. 19, 2001
Summary:
【要約】【課題】スズ陽極への銅の置換析出が生じ難く、メッキ皮膜組成の電流密度依存性が低く、浴安定性が良好で濁りが生じ難い、スズ及び銅を含有するメッキ浴を提供する。【解決手段】 可溶性金属塩と特定の含イオウ化合物を含有することを特徴とするスズ-銅合金メッキ浴、スズ-銅-ビスマス合金メッキ浴、又はスズ-銅-銀合金メッキ浴。
Claim (excerpt):
(A)可溶性第一スズ化合物、(B)可溶性銅化合物、並びに(C)下記(i)〜(v)に示される化合物からなる群から選ばれた少なくとも一種の含イオウ化合物:(i)チオ尿素化合物、(ii)メルカプタン化合物、(iii)下記一般式(1): Re-Ra-[(X-Rb)L-(Y-Rc)M-(Z-Rd)N]-Rf (1)[式中、各記号は次の意味である:Mは1〜100の整数、L及びNはそれぞれ0又は1〜100の整数を表す;YはS又はS-Sを表し、X及びZは同一又は異なって、それぞれO、S又はS-Sを表す;RaはC1〜C12の直鎖若しくは分岐鎖アルキレン、又は2-ヒドロキシプロピレンを表す;Rb、Rc及びRdは同一又は異なって、それぞれメチレン、エチレン、プロピレン、2-ヒドロキシプロピレン、ブチレン、ペンチレン又はヘキシレンを表す;X-Rb、Y-Rc及びZ-Rdにおいて、互いの存在位置は限定されず、ランダムな順列を取り得る。また、X-Rb、Y-Rc又はZ-Rdの各結合が繰り返される場合、その結合は、複数種の結合から構成されてもよい;Re及びRfは同一又は異なって、それぞれ、水素、カルボキシル、ヒドロキシ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、シクロアルキル、アリル、多環式シクロアルキル、アリール、多環式アリール、-O-アルキル、-S-アルキル、-O-アルケニル、-O-アルキニル、-O-アラルキル、-O-アリル、-O-多環式シクロアルキル、-O-アセチル、-O-アリール又は-O-多環式アリールを表す;ただし、Re及びRfの内で、水素、カルボキシル及びヒドロキシ以外の基は、ハロゲン、シアノ、ホルミル、アルコキシ、カルボキシル、アシル、ニトロ及びヒドロキシからなる群から選ばれた少なくとも一個の基で置換されていても良い。]で表される脂肪族スルフィド化合物、(vi)下記一般式(2): Rg-[(S)X-Rh]p-[(S)Y-Ri)]q (2)[式中、各記号は次の意味である:X及びYはそれぞれ1〜4の整数を表し、pは0又は1〜100の整数を表し、qは1〜100の整数を表す;ここで、(a)p=0の場合には、Rg及びRiは、下記?@又は?Aに示す意味である;?@Rg及びRiは、同一又は異なって、アルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、シクロアルキル、多環式シクロアルキル、アリール、多環式アリール、ヘテロ環式基又は多環式ヘテロ環式基を表し、Rg及びRiの少なくとも一方は、1個以上の塩基性窒素原子を有する、或いは、?ARg及びRiは、互いに結合して1個以上の塩基性窒素原子を有する単環又は多環を形成する;上記?@及び?Aにおいて、Rg及びRiは、同一又は異なって良い;(b)p=1〜100の整数の場合には、Rg、Rh及びRiは、下記?@又は?Aに示す意味である;?@Rg及びRiはアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、シクロアルキル、多環式シクロアルキル、アリール、多環式アリール、ヘテロ環式基又は多環式ヘテロ環式基を表し、Rhはアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、アラルキレン、シクロアルキレン、多環式シクロアルキレン、アリレン、多環式アリレン、ヘテロ環式基又は多環式ヘテロ環式基を表し、且つ、Rg、Rh及びRiの少なくとも一つが、1個以上の塩基性窒素原子を有する、或いは、?ARgとRh、RgとRi、又はRhとRiが結合するか、RgとRh、及びRhとRiが複合的に結合して、1個以上の塩基性窒素原子を有する単環又は多環を形成する;上記?@及び?Aにおいて、Rg、Rh及びRiは、同一又は異なって良い;但し、上記した(a)及び(b)において、Rg、Rh及びRiは、ハロゲン、アミノ、シアノ、ホルミル、アルコキシ、カルボキシル、アシル、ニトロ及びヒドロキシからなる群から選ばれた少なくとも一個の基で置換されていても良い。]で表される塩基性窒素原子を含有するスルフィド化合物(但しジチオジアニリンを除く)、(v)チオクラウンエーテル化合物、を含有することを特徴とするスズ-銅合金メッキ浴。
IPC (4):
C25D 3/60 ,  C25D 7/00 ,  C25D 7/12 ,  H05K 3/18
FI (6):
C25D 3/60 ,  C25D 7/00 G ,  C25D 7/00 H ,  C25D 7/00 J ,  C25D 7/12 ,  H05K 3/18 G
F-Term (28):
4K023AB34 ,  4K023BA06 ,  4K023BA08 ,  4K023BA13 ,  4K023BA21 ,  4K023BA29 ,  4K023CA04 ,  4K023CB07 ,  4K023CB08 ,  4K023CB21 ,  4K024AA21 ,  4K024AB01 ,  4K024BA01 ,  4K024BA11 ,  4K024BB09 ,  4K024BB10 ,  4K024BB11 ,  4K024BB12 ,  4K024BB13 ,  4K024BC10 ,  4K024GA01 ,  4K024GA14 ,  4K024GA16 ,  5E343BB54 ,  5E343BB55 ,  5E343CC78 ,  5E343DD43 ,  5E343GG06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (26)
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