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J-GLOBAL ID：200903086945999877

レジスト積層体及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 佐藤 充 ,  大森 克美 ,  井口 悦子 ,  石川 清 ,  金子 文武 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996239590
Publication number (International publication number)：1998090880
Application date： Sep. 10, 1996
Publication date： Apr. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】 断面形状に優れた、忠実度の高いパターンを形成しうる、反射防止膜を含むレジスト積層体、及びそれを用いてパターンを形成する方法を提供する。【解決手段】 基板上に設けられた反射防止膜の上に、オキシムスルホネート系化合物から成る酸発生剤を含むネガ型レジスト膜を有するレジスト積層体を作成し、及びこの積層体のネガ型レジスト膜に、活性線を選択的に照射後、加熱処理を施したのち、現像処理して反射防止膜上にネガ型レジストパターンを形成させ、次いでこのレジストパターンをマスクとしてドライエッチング処理して基板上にパターンを形成させる。

Claim (excerpt)：

基板上に設けられた反射防止膜の上に、オキシムスルホネート系化合物から成る酸発生剤を含有するネガ型レジスト膜を形成したことを特徴とするレジスト積層体。

IPC (6)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (6)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 574 ,  H01L 21/302 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• ハレーション止め組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-328816   Applicant：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
• リソグラフィー用下地材及びそれを用いた多層レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-040523   Applicant：東京応化工業株式会社
• 感光性樹脂用下地材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-041022   Applicant：住友化学工業株式会社
• 高感度の高解像度i-線ホトレジスト
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-144327   Applicant：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト, オーシージーミクロエレクトロニクスインコーポレーテッド
• 特開平2-154266
  
• 特開平4-340966
  
• ネガ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-184858   Applicant：三菱化成株式会社
• ネガ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-319742   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• ネガ型感光性組成物およびこれを用いたパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-236532   Applicant：三菱化成株式会社