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J-GLOBAL ID:200903087591037203
半導体発光素子
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
植本 雅治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996255421
Publication number (International publication number):1998084163
Application date: Sep. 05, 1996
Publication date: Mar. 31, 1998
Summary:
【要約】【課題】 ヘテロ障壁ΔEcおよびΔEvをともにレーザ発振するために必要なほど大きくできる材料系を提案し、この材料系を用いて、温度特性の良好な赤色半導体レーザ,室温において600nm以下の短波長で発振する可視半導体レーザや、高発光効率の可視発光ダイオードなどの半導体発光素子を提供する。【解決手段】 この半導体発光素子は、面方位が(100)面から[011]方向に15°傾いているn-GaAs基板101上に、n-GaAsバッファ層102,n-(Al0.7Ga0.3)0.51In0.49Pクラッド層103,(Al0.2Ga0.8)0.49In0.51N0.01P0.99活性層104,p-(Al0.7Ga0.3)0.51In0.49Pクラッド層105,p-GaAsコンタクト層106が、例えばMOCVD法により、順次に形成されたものとなっている。
Claim (excerpt):
半導体基板上に、V族元素としてN(窒素)を含んだIII-V族混晶半導体層を活性層として用いた半導体発光素子において、前記活性層は(Al<SB>x</SB>Ga<SB>1-x</SB>)<SB>y</SB>In<SB>1-y</SB>N<SB>z</SB>P<SB>1-z</SB>(0≦x≦1、0≦y≦1、0<z<1)であることを特徴とする半導体発光素子。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-111530
Applicant:株式会社日立製作所
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半導体発光装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-090736
Applicant:信越半導体株式会社
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半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-204768
Applicant:株式会社日立製作所
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半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-064013
Applicant:三洋電機株式会社
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半導体発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-225306
Applicant:三菱化学株式会社
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半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-196371
Applicant:株式会社日立製作所
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半導体構造体および半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-315618
Applicant:シャープ株式会社
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半導体レーザ素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-117129
Applicant:株式会社日立製作所
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半導体レーザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-297128
Applicant:富士通株式会社
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