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J-GLOBAL ID：200903088946449750

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

Inventor： 原田 由香子 ,  吉田 勲 ,  山口 訓史
Applicant, Patent owner： 住友化学株式会社
Agent (3)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006292108
Publication number (International publication number)：2007145823
Application date： Oct. 27, 2006
Publication date： Jun. 14, 2007
Summary：

【課題】LERが改善され、良好な形状のパターンを形成できる化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】例えば下式で得られる塩(B1)が例示される。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

式(I)で示されることを特徴とする塩。

IPC (5)：

C07C 309/17 ,  G03F 7/004 ,  C07D 333/46 ,  C08L 33/04 ,  C08K 5/00

FI (5)：

C07C309/17 ,  G03F7/004 503A ,  C07D333/46 ,  C08L33/04 ,  C08K5/00

F-Term (21)：

2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AB40 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002EV066 ,  4J002EV236 ,  4J002EV306 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-039501   Applicant：住友化学工業株式会社

Cited by examiner (6)

• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-039501   Applicant：住友化学工業株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-132546   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-282756   Applicant：JSR株式会社
• 酸発生剤、スルホン酸、スルホン酸誘導体および感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-189133   Applicant：JSR株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-371311   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-321128   Applicant：富士写真フイルム株式会社