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J-GLOBAL ID:200903089843594740

半導体電極の製造方法及び光化学電池

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 平木 祐輔 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001081271
Publication number (International publication number):2002280327
Application date: Mar. 21, 2001
Publication date: Sep. 27, 2002
Summary:
【要約】【課題】 製造が容易で低コストであり、焼成工程を行わなくてもよい半導体電極の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 有機チタネートを含む酸化物半導体分散液を基板に塗布し、次いで加水分解処理することを特徴とする半導体電極の製造方法。
Claim (excerpt):
有機チタネートを含む酸化物半導体分散液を基板に塗布し、次いで加水分解処理することを特徴とする半導体電極の製造方法。
IPC (4):
H01L 21/288 ,  H01L 21/28 301 ,  H01L 31/04 ,  H01M 14/00
FI (4):
H01L 21/288 M ,  H01L 21/28 301 Z ,  H01M 14/00 P ,  H01L 31/04 Z
F-Term (14):
4M104AA10 ,  4M104BB06 ,  4M104BB36 ,  4M104DD51 ,  4M104GG05 ,  5F051FA06 ,  5F051FA11 ,  5F051FA30 ,  5F051GA03 ,  5H032AA06 ,  5H032AS16 ,  5H032AS19 ,  5H032EE16 ,  5H032EE17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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