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J-GLOBAL ID：200903092384189501

スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法

Inventor：
高見 英生

About 高見 英生

, 
矢作 政隆

About 矢作 政隆


Applicant, Patent owner：
株式会社日鉱マテリアルズ

About 株式会社日鉱マテリアルズ


Agent (1)： 小越 勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003394028
Publication number (International publication number)：2005154820
Application date： Nov. 25, 2003
Publication date： Jun. 16, 2005
Summary：
【要約書】【課題】 SiO2系酸化物を含む材料を採用するとともに、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難く、密着性が良好で、尚且つ高速成膜可能であるスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに光情報記録媒体用薄膜(特に保護膜としての使用)及びその製造方法に関するものであり、これによって、光情報記録媒体の特性の向上及び生産性を大幅に改善することを目的とする。【解決手段】 酸化錫相(110)のピーク強度I1と酸化錫以外の酸化物あるいは複合酸化物相のX線回折図における2θ=15〜40°の範囲に存在する最大ピーク強度I2がI2/I1=0.1〜1であることを特徴とする酸化錫と酸化亜鉛と3価以上の元素の酸化物を主成分としたスパッタリングターゲット。
Claim (excerpt)：
酸化錫相(110)のピーク強度I1と酸化錫以外の酸化物あるいは複合酸化物相のX線回折図における2θ=15〜40°の範囲に存在する最大ピーク強度I2がI2/I1=0.1〜1であることを特徴とする酸化錫と酸化亜鉛と3価以上の元素の酸化物を主成分としたスパッタリングターゲット。
IPC (4)：
C23C14/34 ,  C04B35/495 ,  G11B7/24 ,  G11B7/26
FI (5)：
C23C14/34 A ,  G11B7/24 534K ,  G11B7/24 535A ,  G11B7/26 531 ,  C04B35/00 J
F-Term (29)：
4G030AA32 ,  4G030AA34 ,  4G030AA36 ,  4G030AA39 ,  4G030AA42 ,  4G030BA02 ,  4G030BA15 ,  4G030CA01 ,  4G030CA04 ,  4G030CA07 ,  4G030GA08 ,  4G030GA09 ,  4G030GA11 ,  4G030GA25 ,  4G030GA27 ,  4K029BA50 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  5D029LA14 ,  5D029LA18 ,  5D029LA19 ,  5D029LC11 ,  5D029LC16 ,  5D121AA04 ,  5D121EE03 ,  5D121EE11 ,  5D121EE14
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (10)
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