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J-GLOBAL ID：200903092420003339

光断層画像形成方法および光断層画像化装置

Inventor：
小澤 聡

About 小澤 聡


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (2)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008094317
Publication number (International publication number)：2009244232
Application date： Mar. 31, 2008
Publication date： Oct. 22, 2009
Summary：
【課題】波長掃引光源を用いるSS-OCTにおいて、1回の測定で測定可能な範囲の全域における測定関心領域を高解像に測定することができ、全域が高解像で表示された断層画像を得ることのできる断層画像形成方法および光断層画像化装置を提供する。【解決手段】測定深度方向の第1基準位置を測定範囲の内縁部または外縁部に設定し、第1基準位置に対して測定深度がそれぞれ異なる複数の基準位置を設定し、同一の測定対象について、第1基準位置および複数の基準位置に基づく複数の断層画像を取得し、複数の断層画像の一部または全部の領域を合成して1の合成断層画像を形成することにより、上記課題を解決する。【選択図】図5
Claim (excerpt)：
波長掃引光源を用いた光断層画像測定による光断層画像形成方法であって、 測定深度方向の第1基準位置を測定範囲の内縁部または外縁部に設定し、 前記第1基準位置に対して測定深度がそれぞれ異なる複数の基準位置を設定し、 同一の測定対象について、前記第1基準位置および前記複数の基準位置に基づく複数の断層画像を取得し、 前記複数の断層画像の一部または全部の領域を合成して1の合成断層画像を形成する光断層画像形成方法。
IPC (1)：
G01N 21/17
FI (1)：
G01N21/17 625
F-Term (15)：
2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE12 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG08 ,  2G059GG09 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (9)
  • 光断層画像化装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-289116   Applicant：富士フイルム株式会社
  • 超音波診断装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-199765   Applicant：テルモ株式会社
  • 特開平1-198535
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