凹凸構造体とその製造方法、圧電素子、インクジェット式記録ヘッド、インクジェット式記録装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：柳田征史 , 佐久間剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006246543
Publication number (International publication number)：2007144992
Application date： Sep. 12, 2006
Publication date： Jun. 14, 2007
Summary：

【課題】凸部の材料や厚みに関わらず、凸部の形状精度を良好とすることが可能なパターニング技術を提供する。【解決手段】基板10上であって凸部31の非形成領域32に、選択的に除去可能な犠牲層34をパターン形成する工程(A)と、基板10の犠牲層34をパターン形成した側に、基板10の基板面に対して非平行方向に延びる多数の柱状体からなる柱状構造膜30Xを形成する工程(B)と、リフトオフ法により、犠牲層34、及び柱状構造膜30Xのレジスト又は犠牲層34の上に位置する部分を除去して、多数の柱状体からなる単数又は複数の凸部31を形成する工程(C)とを順次実施する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

基板上に単数又は複数の凸部を備えた凹凸構造体の製造方法において、前記基板上であって前記凸部の非形成領域に、選択的に除去可能なレジスト又は犠牲層をパターン形成する工程(A)と、前記基板の前記レジスト又は前記犠牲層をパターン形成した側に、前記基板の基板面に対して非平行方向に延びる多数の柱状体からなる柱状構造膜を形成する工程(B)と、リフトオフ法により、前記レジスト又は前記犠牲層、及び前記柱状構造膜の前記レジスト又は前記犠牲層の上に位置する部分を除去して、前記多数の柱状体からなる前記単数又は複数の凸部を形成する工程(C)とを順次有することを特徴とする凹凸構造体の製造方法。

IPC (6)：

B41J 2/16 , B41J 2/055 , B41J 2/045 , H01L 41/22 , H01L 41/09 , H01L 41/18

FI (5)：

B41J3/04 103H , B41J3/04 103A , H01L41/22 Z , H01L41/08 J , H01L41/18 101Z

F-Term (11)：

2C057AF93 , 2C057AG45 , 2C057AP02 , 2C057AP14 , 2C057AP31 , 2C057AP52 , 2C057AP53 , 2C057AP57 , 2C057AP90 , 2C057BA04 , 2C057BA14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

インクジェットヘッドの製造方法、インクジェットヘッド、及びインクジェット式記録装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-396013 Applicant：松下電器産業株式会社
チタン酸鉛ジルコニウム及びチタン酸バリウムストロンチウムをパターン化する方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-579339 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
特開昭53-70764号公報

Show all

Cited by examiner (7)

圧電式アクチュエータの形成方法および液体吐出ヘッド
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-339521 Applicant：日立金属株式会社
圧電体素子、インクジェット式記録ヘッドおよびそれらの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-341571 Applicant：セイコーエプソン株式会社
圧電膜型アクチュエータおよび液体噴射ヘッドとその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-319381 Applicant：キヤノン株式会社, 香川豊

Show all

Return to Previous Page