異なる検査パラメータを使用する試験片の検査のための方法とシステム

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：山川政樹 , 山川茂樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006525531
Publication number (International publication number)：2007511739
Application date： Sep. 03, 2004
Publication date： May. 10, 2007
Summary：

異なるパラメータを使用して試験片の検査を行うための方法とシステムを提供する。コンピュータによって実施される方法は、選択された欠陥に基づいて検査のための最適パラメータを決定することを含む。またこの方法は、検査に先行して、検査システムのパラメータを最適パラメータに設定することを含む。試験片を検査するための別の方法は、約350nmより下の波長を有する光と、約350nmより上の波長を有する光を用いて試験片を照明することを含む。またこの方法は、試験片から収集された光を表す信号を処理し、試験片上の欠陥または工程の変動を検出ことも含む。試験片を検査するように構成された1つのシステムは、広帯域光源に結合された第1の光学サブシステムと、レーザに結合された第2の光学サブシステムを含む。またこのシステムは第1と第2の光学サブシステムから、光を試験片上に集束させる対物鏡に光を結合するように構成された第3の光学サブシステムも含む。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

試験片の検出に対して選択された欠陥に基づいて前記試験片の検査のための、350nmより下の少なくとも1つの波長および350nmより上の少なくとも1つの波長を含む最適パラメータを決定すること、検査システムのパラメータを、前記試験片の検査の前に、前記最適パラメータに設定すること、を含む、コンピュータによって実装される方法。

IPC (3)：

G01N 21/956 , H01L 21/66 , G03F 1/08

FI (3)：

G01N21/956 A , H01L21/66 J , G03F1/08 S

F-Term (26)：

2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051BA04 , 2G051BA05 , 2G051BA10 , 2G051BA11 , 2G051BB01 , 2G051BB11 , 2G051CA01 , 2G051CB01 , 2G051CC11 , 2G051DA07 , 2H095BA02 , 2H095BD04 , 2H095BD05 , 2H095BD13 , 4M106AA01 , 4M106BA05 , 4M106CA38 , 4M106DB08 , 4M106DB18 , 4M106DB20 , 4M106DJ11 , 4M106DJ20 , 4M106DJ38 , 4M106DJ39

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

国際特許出願公開第WO 01/40145 A2号
米国特許第6,392,793 B1号
米国特許第6,392,791 B1号

Cited by examiner (9)

パーティクル検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-099018 Applicant：日本電気株式会社
半導体デバイス故障解析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-030036 Applicant：浜松ホトニクス株式会社
欠陥検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-232704 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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