質量分析システム、質量分析方法、質量分析装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：作田康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002230757
Publication number (International publication number)：2004071420
Application date： Aug. 08, 2002
Publication date： Mar. 04, 2004
Summary：

【課題】タンデム質量分析可能なサンプルの数は限られているため、タンデム質量分析を施すことができない強度の低いイオンが存在する場合、夾雑成分が非常に多い場合には、分析したい微量サンプルのタンデム質量分析ができないという問題がある。【解決手段】上記課題を解決するために、分析対象候補物質の情報を第一のデータベースとして有し、分析対象ではないイオンを1次質量分析より前に排除するための高周波電圧が印加できる高周波電源を有し、分析対象イオンを優先的にタンデム質量分析する質量分析システムが提供される。【効果】未知の夾雑成分が多量に混入している場合にも分析したい微量サンプルを高感度に質量分析できる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

試料をイオン化するイオン源と、前記試料をイオン化したイオンの1次質量分析及び前記1次質量分析の後に前記イオンを解離させて生じた解離イオンの2次質量分析を行う質量分析部と、分析対象外イオンを前記1次質量分析より前に排除するための高周波電圧を印加する高周波電源と、前記分析対象外イオンの排除命令を前記高周波電源に出力する制御部とを有することを特徴とする質量分析システム。

IPC (4)：

H01J49/26 , G01N27/62 , H01J49/40 , H01J49/42

FI (7)：

H01J49/26 , G01N27/62 D , G01N27/62 L , G01N27/62 V , G01N27/62 X , H01J49/40 , H01J49/42

F-Term (11)：

5C038HH01 , 5C038HH02 , 5C038HH05 , 5C038HH16 , 5C038HH21 , 5C038HH26 , 5C038HH28 , 5C038JJ01 , 5C038JJ06 , 5C038JJ07 , 5C038JJ11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

イオントラップ型質量分析装置およびイオントラップ質量分析方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-039747 Applicant：株式会社日立製作所
質量分析方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-301740 Applicant：株式会社日立製作所
特開昭62-204153

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