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J-GLOBAL ID:200903096537145180

プラズマ発生用電極、プラズマ発生装置及びプラズマ処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三木 久巳
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004097172
Publication number (International publication number):2005285520
Application date: Mar. 29, 2004
Publication date: Oct. 13, 2005
Summary:
【目的】対向する電極間に放電に安定して確実に生起させ、プラズマを容易に連続的に発生することができるプラズマ発生用電極、プラズマ発生装置及びプラズマ処理装置を提供する。【構成】 電極4a、4b間でプラズマを発生させるプラズマ発生用電極4において、電極4の少なくとも一方の電極4aに電極間方向に向いた先鋭な突起4gを形成し、この突起4gと他方の電極4b間に放電を生起してプラズマを発生させるように構成した。この先鋭な突起4gは任意の形状に形成できる。送流器7から任意の流体を送流すれば、所望の気体プラズマや液体プラズマを生成できる。このプラズマを用いて被処理物を処理すれば、成膜装置、加工装置、粉体処理装置などのプラズマ装置を構成できる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
電極間でプラズマを発生させるプラズマ発生用電極において、前記電極の少なくとも一方の電極に電極間方向に向いた先鋭な突起を形成し、この突起と他方の電極間に放電を生起してプラズマを発生させるように構成したことを特徴とするプラズマ発生用電極。
IPC (3):
H05H1/30 ,  B01J19/08 ,  H05H1/46
FI (3):
H05H1/30 ,  B01J19/08 E ,  H05H1/46 M
F-Term (15):
4G075AA03 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA01 ,  4G075CA15 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EC21 ,  4G075EE01 ,  4G075EE02 ,  4G075EE04 ,  4G075EE31 ,  4G075FA08 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • プラズマ表面処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2000-114458   Applicant:株式会社キーエンス
Cited by examiner (10)
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