Pat
J-GLOBAL ID:200903096682522952
圧電体素子及びこれを用いたインクジェット式記録ヘッド
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
稲葉 良幸 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000219792
Publication number (International publication number):2002043641
Application date: Jul. 19, 2000
Publication date: Feb. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】 大きな変位量を有し、残留変位を少なくすることにより圧電特性の周波数依存性を減じることのできる圧電体素子を提供する。【解決手段】 圧電体膜41と、この圧電体膜41を挟んで配置される下部電極32および上部電極42とを備えた圧電体素子である。この圧電体膜41は、Pb<SB>x</SB>(Zr<SB>y</SB>Ti<SB>1-y</SB>)O<SB>3</SB>で表され、前記xは0.8<x<1の範囲にあり、前記yは0.53≦y<1の範囲にあり、かつ、(111)面優先配向であるか、前記xは0.8<x<1の範囲にあり、前記yは0<y<0.53の範囲にあり、かつ、(100)面優先配向であるかのいずれかである。
Claim (excerpt):
圧電体膜と、この圧電体膜を挟んで配置される下部電極および上部電極とを備えた圧電体素子であって、前記圧電体膜は、Pb<SB>x</SB>(Zr<SB>y</SB>Ti<SB>1-y</SB>)O<SB>3</SB>で表され、前記xは0.8<x<1の範囲にあり、前記yは0.53≦y<1の範囲にあり、かつ、(111)面優先配向であることを特徴とする圧電体素子。
IPC (7):
H01L 41/09
, C04B 35/49
, H01L 41/187
, H01L 41/22
, B41J 2/045
, B41J 2/055
, B41J 2/16
FI (7):
C04B 35/49 A
, H01L 41/08 C
, H01L 41/08 U
, H01L 41/18 101 D
, H01L 41/22 Z
, B41J 3/04 103 A
, B41J 3/04 103 H
F-Term (23):
2C057AF02
, 2C057AG16
, 2C057AG39
, 2C057AG44
, 2C057AG52
, 2C057AG55
, 2C057AN01
, 2C057AP02
, 2C057AP14
, 2C057AP25
, 2C057AP32
, 2C057AP34
, 2C057AP52
, 2C057AP54
, 2C057AP56
, 2C057AP57
, 2C057AQ02
, 2C057BA03
, 2C057BA14
, 4G031AA11
, 4G031AA32
, 4G031BA10
, 4G031CA08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
-
圧電型検出器ならびにその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-308181
Applicant:松下電器産業株式会社
-
強誘電体膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-052185
Applicant:シャープ株式会社
-
半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-030726
Applicant:松下電器産業株式会社
-
インクジェット記録装置とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-161836
Applicant:松下電器産業株式会社
-
圧電体薄膜素子及びその製造方法、並びにこれを用いたインクジェット式記録ヘッド
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-077668
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
圧電体薄膜素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-339343
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
チタン酸ジルコン酸鉛系薄膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-197722
Applicant:株式会社日立製作所
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