反射防止膜材料

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：好宮幹夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997092951
Publication number (International publication number)：1998069091
Application date： Mar. 27, 1997
Publication date： Mar. 10, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】成膜性が良く、微細で寸法精度及び合わせ精度が高く、簡便で生産性が高く、再現性良くレジストパターンを形成することができる反射防止膜として、さらに、化学増幅型レジスト表面の酸の失活を引き起こさないため上記PEDの問題が起こらずそれ故化学増幅型レジストの場合には保護膜としても機能するレジスト上層の材料を、フロンを使用することなく提供する。【解決手段】 a)ポリ(N-ビニルピロリドン)単独重合体およびN-ビニルピロリドンと他のビニル系モノマーとの水溶性共重合体からなる群から選択される少なくとも1種の水溶性ポリマーと、b)少なくとも1種のフッ素含有有機酸と、c)少なくとも1種のアミノ酸誘導体を含む水溶液からなる、レジスト層の上層を形成する水溶性膜材料。

Claim (excerpt)：

a)ポリ(N-ビニルピロリドン)単独重合体およびN-ビニルピロリドンと他のビニル系モノマーとの水溶性共重合体からなる群から選択される少なくとも1種の水溶性ポリマーと、b)少なくとも1種のフッ素含有有機酸と、c)少なくとも1種のアミノ酸誘導体を含む水溶液からなることを特徴とする、レジスト層の上層を形成する水溶性膜材料。

IPC (4)：

G03F 7/11 501 , C09D139/06 , G03F 7/004 506 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/11 501 , C09D139/06 , G03F 7/004 506 , H01L 21/30 574

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

水溶性膜材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-252849 Applicant：信越化学工業株式会社
光反射性防止材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-345213 Applicant：信越化学工業株式会社
レジスト用塗布液及びそれを用いたレジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-327610 Applicant：東京応化工業株式会社

Show all

Return to Previous Page