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J-GLOBAL ID：200903098709768846

感放射線性樹脂組成物

Inventor： 西村 幸生 ,  石井 寛之 ,  小林 英一 ,  トマス・アイ・ウォロウ ,  ロバート・ディー・アレン ,  プシュカラ・ラーオ・ヴラナシー
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社 ,  インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002056522
Publication number (International publication number)：2003255539
Application date： Mar. 01, 2002
Publication date： Sep. 10, 2003
Summary：

【要約】【課題】 放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本性能に優れた化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、(A)下記一般式(1-1)で表される繰り返し単位と、(メタ)アクリル酸2-エチル-2-アダマンチル、2-ノルボルニル-2-(メタ)アクリロイルオキシプロパン、(メタ)アクリル酸1-メチルシクロペンチル等で代表される(メタ)アクリル系繰り返し単位とを必須単位とし、酸の作用によりアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂、および(B)感放射線性酸発生剤を含有する。【化1】〔一般式(1-1)において、R1 は水素原子またはメチル基を示す。〕

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(1-1)で表される繰り返し単位と下記一般式(1-2)で表される繰り返し単位とを必須単位として含有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂、および(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1-1)および一般式(1-2)において、R1 およびR2 は相互に独立に水素原子またはメチル基を示し、各R3 は相互に独立に炭素数4〜20の1価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体、または炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を示し、且つR3 の少なくとも1つが該脂環式炭化水素基もしくはその誘導体であるか、あるいは何れか2つのR3 が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子と共に炭素数4〜20の2価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成して、残りのR3 が炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数4〜20の1価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体である。〕

IPC (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (32)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB13 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA40Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100FA03 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-051811   Applicant：東京応化工業株式会社
• レジスト用(共)重合体およびレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-392856   Applicant：三菱レイヨン株式会社
• 重合体、化学増幅型レジスト組成物、および、パターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-368904   Applicant：三菱レイヨン株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-369340   Applicant：東京応化工業株式会社
• レジストパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-198362   Applicant：信越化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-360110   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-032449   Applicant：富士写真フイルム株式会社