偏光特性測定装置及び偏光特性測定方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (3)：大渕美千栄 , 布施行夫 , 都築美奈
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009079895
Publication number (International publication number)：2010230565
Application date： Mar. 27, 2009
Publication date： Oct. 14, 2010
Summary：

【課題】実時間での測定を行うことが可能な偏光特性測定装置及び偏光特性測定方法を提供すること。【解決手段】光源12から出射された光を、偏光子22、第1の1/4波長板24を介して試料30に入射させ、試料30を透過した光を、第2の1/4波長板42、検光子44を介して円錐ミラー62の頂点に入射させる。第1の1/4波長板24の各位置における主軸方位と、第2の1/4波長板42の各位置における主軸方位の比が、それぞれ1:Nとなるように構成する。カメラ50は、円筒形スクリーン60の内面に投射されたリングビームRBを撮像し、画像データを演算装置70に対して出力する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

測定対象の偏光特性を測定する偏光特性測定装置において、第1及び第2の偏光変調器と、前記第1及び第2の偏光変調器と前記測定対象で前記光を変調せることによって得られる測定光を受光する受光部とを含み、前記第1の偏光変調器は、第1の偏光子と第1の波長板とを含み、前記第2の偏光変調器は、第2の偏光子と第2の波長板とを含み、光源から出射された光を、前記第1の偏光子及び前記第1の波長板を介して前記測定対象に入射させ、前記測定対象によって変調された前記光を、前記第2の波長板及び前記第2の偏光子を介して前記受光部に入射させるように構成され、前記第1及び第2の波長板が、位置によって異なる複数の主軸方位を有し、前記第1の波長板の各位置における主軸方位と、前記第1の波長板の各位置に対応する前記第2の波長板の各位置における主軸方位の比が、それぞれ1:N(Nは2以上の整数)であることを特徴とする偏光特性測定装置。

IPC (1)：

G01N 21/21

FI (1)：

G01N21/21 Z

F-Term (14)：

2G059AA02 , 2G059BB10 , 2G059EE01 , 2G059EE05 , 2G059EE11 , 2G059FF01 , 2G059JJ01 , 2G059JJ11 , 2G059JJ14 , 2G059JJ18 , 2G059JJ19 , 2G059JJ20 , 2G059KK04 , 2G059MM01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

複屈折測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-174801 Applicant：有限会社ユニオプト
光軸計測方法および光軸計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-227807 Applicant：ソニー株式会社
複屈折測定装置及びストークスパラメータ算出プログラム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-238037 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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