形状測定装置および形状測定方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010116282
Publication number (International publication number)：2010271316
Application date： May. 20, 2010
Publication date： Dec. 02, 2010
Summary：

【課題】形状測定装置および形状測定方法を提供すること。【解決手段】測定対象基板を支持するワークステージと、光源、格子イメージを生成するために光源から発生された光を透過及び遮光させる格子部および前記測定対象基板の測定対象物に前記格子イメージを結像させる投影レンズ部を含むパターン投影部と、前記測定対象基板の測定対象物で反射される格子イメージを撮像する撮像部と、ワークステージ、パターン投影部および撮像部を制御し、前記格子イメージの信頼性指数と測定対象物に対する格子イメージの位相を算出して、前記位相と前記信頼性指数を利用して測定対象物を検査する制御部と、を含む。したがって、測定精度を向上させる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

測定対象基板を支持するワークステージと、光源、格子イメージを生成するために前記光源から発生された光を透過及び遮光させる格子部、および前記測定対象基板の測定対象物に前記格子イメージを結像させる投影レンズ部を含むパターン投影部と、前記測定対象基板の測定対象物で反射される前記格子イメージを撮像する撮像部と、前記ワークステージ、前記パターン投影部および前記撮像部を制御し、前記格子イメージの信頼性指数と前記測定対象物に対する格子イメージの位相を算出して、前記位相と前記信頼性指数を利用して前記測定対象物を検査する制御部と、を含むことを特徴とする形状測定装置。

IPC (1)：

G01B 11/25

FI (1)：

G01B11/25 H

F-Term (21)：

2F065AA03 , 2F065AA51 , 2F065CC25 , 2F065FF04 , 2F065FF44 , 2F065HH06 , 2F065HH07 , 2F065HH14 , 2F065JJ19 , 2F065JJ26 , 2F065LL04 , 2F065LL41 , 2F065PP11 , 2F065QQ06 , 2F065QQ14 , 2F065QQ17 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ31 , 2F065QQ42 , 2F065TT03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

3次元計測方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-201181 Applicant：オリンパス株式会社
半導体チップ実装用パッド部の評価方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-360311 Applicant：松下電工株式会社
外観形状検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-308218 Applicant：日立電子株式会社

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