導電パターン形成基板の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 鈴木三義 , 西和哉 , 村山靖彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009037973
Publication number (International publication number)：2010192387
Application date： Feb. 20, 2009
Publication date： Sep. 02, 2010
Summary：

【課題】有機導電体の導電パターンが形成されているにもかかわらず、導電パターンが視認されにくい導電パターン形成基板を容易に製造できる導電パターン形成基板の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、透明基材A2の少なくとも一方の面に形成された有機導電体製の透明導電層A1に、パルス幅1p秒未満の極短パルスのレーザ光Lを所定のパターンで照射する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

透明基材の少なくとも一方の面に形成された有機導電体製の透明導電層に、パルス幅1p秒未満の極短パルスのレーザ光を所定のパターンで照射することを特徴とする導電パターン形成基板の製造方法。

IPC (1)：

H01B 13/00

FI (2)：

H01B13/00 503B , H01B13/00 503D

F-Term (4)：

5G323BA05 , 5G323BB01 , 5G323BC03 , 5G323CA04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

パターン形成装置およびパターン形成方法、それを用いて作製されたデバイスおよび該デバイスを有する電子機器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-164619 Applicant：パナソニック株式会社
特開昭62-069657
超短パルスレーザーを用いた表面剥離洗浄方法とその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-235422 Applicant：エレクトロン機器株式会社, 増原宏, 科学技術振興事業団

Show all

Return to Previous Page