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J-GLOBAL ID：201102274349945170   Reference number：11A0571794

Crystallization Behavior of Sputtered Amorphous Silicon Films by Blue-Multi-Laser-Diode Annealing

青色マルチ-レーザ-ダイオードでアニールしたスパッタアモルファスシリコン薄膜の結晶化挙動

Author (9)： SHIRAI Katsuya (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  MUGIRANEZA Jean de Dieu (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  SUZUKI Toshiharu (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  OKADA Tatsuya (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  NOGUCHI Takashi (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  MATSUSHIMA Hideki (Hitachi Computer Peripherals Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  HASHIMOTO Takao (Hitachi Computer Peripherals Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  OGINO Yoshiaki (Hitachi Computer Peripherals Co., Ltd., Kanagawa, JPN) ,  SAHOTA Eiji (Hitachi Computer Peripherals Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 50  Issue： 2  Page： 021402.1-021402.5  Publication year： Feb. 25, 2011 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： blue ,  *semiconductor laser ,  *laser annealing ,  sputtering ,  amorphous silicon ,  thin film ,  *crystallization ,  behavior ,  scanning ,  liquid phase ,  solid phase

JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Reference (22)：

• T. Noguchi, D. Y. Kim, J. Y. Kwon, K. B. Park, J. S. Jung, W. X. Xianyu, H. X. Yin, and H. S. Cho: Mater. Res. Soc. Symp. Proc.814(2004)11.4.
• T. Serikawa: Proc. Int. TFT Conf., 2005, p. 52.
• N. Kawamoto, A. Masuda, N. Matsuo, Y. Seri, T. Nishimori, Y. Kitamon, H. Matsumura, H. Hamada, and T. Miyoshi: Jpn. J. Appl. Phys.45(2006)2726.
• T. Kaitoh, T. Miyazawa, H. Miyake, T. Noda, T. Sakai, Y. Owaku, and T. Saitoh: Proc. IDW07, 2007, AMD7-1.
• T. Noguchi, Y. Chen, T. Miyahira, J. D. Mugiraneza, Y. Ogino, Y. Iida, E. Sahota, and M. Terao: Jpn. J. Appl. Phys.49(2010)03CA10.

Terms in the title (9)： 青色 ,  マルチ ,  レーザ ,  ダイオード ,  アニール ,  スパッタ ,  アモルファス ,  シリコン薄膜 ,  結晶化挙動