Pat
J-GLOBAL ID:201103005182070616
薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びに表示装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
藤島 洋一郎
, 三反崎 泰司
, 長谷部 政男
, 田名網 孝昭
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010245035
Publication number (International publication number):2011228622
Application date: Nov. 01, 2010
Publication date: Nov. 10, 2011
Summary:
【課題】セルフアライン構造の薄膜トランジスタの特性を安定させることが可能な薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びに表示装置を提供する。【解決手段】酸化物半導体膜20のチャネル領域20A上にゲート絶縁膜30およびゲート電極40をこの順に同一形状で形成する。酸化物半導体膜20,ゲート絶縁膜30およびゲート電極40の上に金属膜を形成し、この金属膜に対して熱処理を行うことにより、金属膜を酸化させて高抵抗膜50を形成すると共に、ソース領域20Sおよびドレイン領域20Dの上面から深さ方向における少なくとも一部に低抵抗領域21を形成する。低抵抗領域21は、アルミニウム(Al)等をドーパントとして含むか、またはチャネル領域20Aよりも酸素濃度が低いことにより低抵抗化されている。変動要素の多いプラズマ処理を用いずに高抵抗領域21を形成可能となり、安定した特性が得られる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
ゲート電極と、
前記ゲート電極に対向してチャネル領域を有すると共に前記チャネル領域の一方の側にソース領域、他方の側にドレイン領域を有し、前記ソース領域および前記ドレイン領域の上面から深さ方向における少なくとも一部に、アルミニウム(Al),ホウ素(B),ガリウム(Ga),インジウム(In),チタン(Ti),シリコン(Si),ゲルマニウム(Ge),スズ(Sn)および鉛(Pb)からなる群のうちの少なくとも一種をドーパントとして含む低抵抗領域を有する酸化物半導体膜と、
前記低抵抗領域に接続されたソース電極およびドレイン電極と
を備えた薄膜トランジスタ。
IPC (4):
H01L 29/786
, H01L 21/336
, G02F 1/136
, G09F 9/30
FI (9):
H01L29/78 616S
, H01L29/78 616V
, H01L29/78 618B
, H01L29/78 616T
, H01L29/78 619A
, H01L29/78 616L
, H01L29/78 627F
, G02F1/1368
, G09F9/30 338
F-Term (78):
2H092GA59
, 2H092JA25
, 2H092JA34
, 2H092JA37
, 2H092JA46
, 2H092JA47
, 2H092JA48
, 2H092KA05
, 2H092KA08
, 2H092KA18
, 2H092MA25
, 2H092MA27
, 2H092MA37
, 2H092MA41
, 2H092NA11
, 2H092NA24
, 2H092NA27
, 5C094AA43
, 5C094BA03
, 5C094DA13
, 5C094FA01
, 5C094FB02
, 5C094FB05
, 5C094FB12
, 5C094FB14
, 5C094FB18
, 5C094GB10
, 5C094JA08
, 5F110AA03
, 5F110AA06
, 5F110AA07
, 5F110BB01
, 5F110CC01
, 5F110CC02
, 5F110CC07
, 5F110CC08
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110EE02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE14
, 5F110EE43
, 5F110EE44
, 5F110FF01
, 5F110FF02
, 5F110FF03
, 5F110FF04
, 5F110FF09
, 5F110FF27
, 5F110FF28
, 5F110FF30
, 5F110GG01
, 5F110GG13
, 5F110GG15
, 5F110GG25
, 5F110GG43
, 5F110HJ01
, 5F110HJ04
, 5F110HJ16
, 5F110HJ30
, 5F110HL02
, 5F110HL03
, 5F110HL04
, 5F110HL11
, 5F110HL23
, 5F110NN02
, 5F110NN03
, 5F110NN04
, 5F110NN05
, 5F110NN12
, 5F110NN13
, 5F110NN14
, 5F110NN22
, 5F110NN23
, 5F110QQ09
, 5F110QQ11
, 5F110QQ12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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薄膜トランジスタ及びその製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-038427
Applicant:財団法人高知県産業振興センター, カシオ計算機株式会社
-
薄膜トランジスタ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-034171
Applicant:三星電子株式会社
-
トランジスタとこれを含む半導体素子及びそれらの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-119199
Applicant:三星電子株式会社
-
半導体装置、及び半導体装置の作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-277272
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
半導体装置及びその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-247669
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
トランジスタ構造及びその製作方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2005-501592
Applicant:ザ・ステート・オブ・オレゴン・アクティング・バイ・アンド・スルー・ザ・ステート・ボード・オブ・ハイヤー・エデュケーション・オン・ビハーフ・オブ・オレゴン・ステート・ユニバーシティ
-
結晶性無機膜とその製造方法、半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-324393
Applicant:富士フイルム株式会社
-
特開平2-256248
-
トランジスタの製造方法,薄膜トランジスタの製造方法,表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-195164
Applicant:三洋電機株式会社
-
表示装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-049885
Applicant:株式会社日立ディスプレイズ
-
半導体装置の製造方法および半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-222152
Applicant:株式会社東芝
-
酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-139532
Applicant:キヤノン株式会社
-
ZnO半導体薄膜及びZnO薄膜トランジスタの製造方法、並びにその方法を適用したZnO薄膜トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-097075
Applicant:三星電子株式会社
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