Pat
J-GLOBAL ID:201103026871215360
光デバイス及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
池田 憲保
, 福田 修一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010156436
Publication number (International publication number):2011142294
Application date: Jul. 09, 2010
Publication date: Jul. 21, 2011
Summary:
【課題】 光デバイスとその製造方法を提供する。【解決手段】 基板と、前記基板の一部を露出する、少なくとも1のアスペクト比をそれぞれ有する2つ以上の開口を含む誘電材料と、前記基板と格子不整合の化合物半導体材料を含み、前記化合物半導体材料が2つ以上の開口を占有し、前記2つ以上の開口の上に接合され、下ダイオード領域を形成する下ダイオード材料と、上ダイオード材料と、前記上及び下ダイオード材料の間に設けられた活性ダイオード領域を有する光デバイス。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
基板と、
前記基板の一部を露出する、少なくとも1のアスペクト比をそれぞれ有する2つ以上の開口を含む誘電材料と、
前記基板と格子不整合の化合物半導体材料を含み、前記化合物半導体材料が2つ以上の開口を占有し、前記2つ以上の開口の上に接合され、下ダイオード領域を形成する下ダイオード材料と、
上ダイオード材料と、
前記上ダイオード材料と下ダイオード材料の間に設けられた活性ダイオード領域を有する光デバイス。
IPC (2):
FI (2):
H01L33/00 140
, H01L31/04 E
F-Term (17):
5F041CA04
, 5F041CA35
, 5F041CA36
, 5F041CA40
, 5F041CA65
, 5F041CA67
, 5F041CA71
, 5F041CA74
, 5F041CA75
, 5F041CA77
, 5F041CA86
, 5F041CB29
, 5F151AA08
, 5F151AA09
, 5F151DA04
, 5F151DA13
, 5F151GA04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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窒化物半導体発光素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-352369
Applicant:ローム株式会社
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半導体基板、半導体基板の製造方法および電子デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-045943
Applicant:住友化学株式会社
-
特開昭62-188386
-
半導体発光装置、発光モジュール、照明装置、および半導体発光装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-305402
Applicant:松下電器産業株式会社
-
半導体素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-012768
Applicant:三星電子株式会社
-
半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-213555
Applicant:松下電器産業株式会社
-
窒化物半導体発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-098976
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
基板から分離された窒化ガリウムの膜をエピタキシーにより製造する方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2004-508396
Applicant:リュミログ
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窒化物半導体の成長方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-219841
Applicant:日亜化学工業株式会社
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