プラズマ生成装置、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：渡邊和浩 , 星宮勝美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010207774
Publication number (International publication number)：2012064444
Application date： Sep. 16, 2010
Publication date： Mar. 29, 2012
Summary：

【課題】マイクロ波の損失を極力低減し、高密度プラズマを効率良く生成できるプラズマ生成装置を提供する。【解決手段】プラズマ生成装置100は、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生装置21と、マイクロ波発生装置21に接続され、マイクロ波の伝送方向に長尺をなすとともに、該伝送方向に直交する方向の断面が矩形をした中空状の矩形導波管22と、矩形導波管22に接続されてその内部へ処理ガスを供給するガス供給装置23と、矩形導波管22の一部分であって、内部で生成したプラズマを外部で放出するアンテナ部40とを備えている。アンテナ部40は、その断面において短辺をなす壁40aに1又は複数のスロット孔41を有しており、大気圧状態の矩形導波管22内に供給された処理ガスをマイクロ波によってプラズマ化し、スロット孔41から外部の被処理体へ向けて放出する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

マイクロ波を発生させるマイクロ波発生装置と、前記マイクロ波発生装置に接続され、マイクロ波の伝送方向に長尺をなすとともに、該伝送方向に直交する方向の断面が矩形をした中空状の導波管と、前記導波管に接続されてその内部へ処理ガスを供給するガス供給装置と、前記導波管の一部分であって、マイクロ波により生成したプラズマを外部に放出するアンテナ部と、を備え、前記アンテナ部は、その断面において短辺をなす壁に1又は複数のスロット孔を有しており、大気圧状態の前記導波管内に供給された処理ガスをマイクロ波によって前記スロット孔でプラズマ化し、前記スロット孔から外部へ放出するプラズマ生成装置。

IPC (3)：

H05H 1/24 , H01L 21/304 , B08B 7/00

FI (3)：

H05H1/24 , H01L21/304 645C , B08B7/00

F-Term (39)：

3B116AA02 , 3B116AA03 , 3B116AA04 , 3B116AA08 , 3B116AB13 , 3B116AB42 , 3B116BB32 , 3B116BB82 , 3B116BC01 , 3B116CD11 , 3B116CD43 , 5F157AA35 , 5F157AB13 , 5F157AB33 , 5F157AB42 , 5F157AB94 , 5F157AB98 , 5F157AC01 , 5F157AC13 , 5F157BG32 , 5F157BG33 , 5F157BG34 , 5F157BG35 , 5F157BG37 , 5F157BG39 , 5F157BG72 , 5F157BG85 , 5F157BG86 , 5F157BH18 , 5F157CE66 , 5F157CF04 , 5F157CF20 , 5F157CF64 , 5F157CF72 , 5F157DB02 , 5F157DB15 , 5F157DB37 , 5F157DB43 , 5F157DC31

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-249272 Applicant：東海ゴム工業株式会社, 国立大学法人名古屋大学
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-217287 Applicant：株式会社ダイヘン
プラズマ処理方法、プラズマ処理装置、半導体装置の製造方法及びマイクロ波分散板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-101017 Applicant：住友金属工業株式会社

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