プラズマ生成装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：西藤征彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008223816
Publication number (International publication number)：2010061860
Application date： Sep. 01, 2008
Publication date： Mar. 18, 2010
Summary：

【課題】プラズマ生成空間が広く、プラズマ処理を連続かつ均一に行うことができるプラズマ生成装置を提供する。【解決手段】誘電体板2と、この誘電体板2の片面に設けられた板状のスロットアンテナ4と、このスロットアンテナ4の外側に設けられたマイクロ波導波管5とからなるマイクロ波プラズマ発生手段Rが、上記誘電体板2を対向させた状態で配置され、その対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段Rの間の周縁が壁体12,14により囲まれ、上記一組のマイクロ波プラズマ発生手段Rと上記壁体12,14とで形成される空間がプラズマ生成空間になっている。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

誘電体板と、この誘電体板の片面に設けられた板状のスロットアンテナと、このスロットアンテナの外側に設けられたマイクロ波導波管とからなるマイクロ波プラズマ発生手段が、上記誘電体板を対向させた状態で配置され、その対向する一組のマイクロ波プラズマ発生手段の間の周縁が壁体により囲まれ、上記一組のマイクロ波プラズマ発生手段と上記壁体とで形成される空間がプラズマ生成空間になっていることを特徴とするプラズマ生成装置。

IPC (2)：

H05H 1/46 , H05H 1/24

FI (2)：

H05H1/46 B , H05H1/24

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

積層体およびその製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-028885 Applicant：東海ゴム工業株式会社
マイクロ波プラズマ発生方法、マイクロ波プラズマ発生装置および前記装置を使用してダイヤモンド薄膜を製造する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-145863 Applicant：財団法人浜松科学技術研究振興会

Cited by examiner (8)

プラズマ処理装置および光学部品の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-343085 Applicant：大見忠弘, キヤノン株式会社
表面波励起プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-272842 Applicant：株式会社島津製作所
燃料ホース
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-186443 Applicant：東海ゴム工業株式会社

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