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J-GLOBAL ID:201203061577552185
排ガス浄化用触媒
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 関根 宣夫
, 河野上 正晴
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011089350
Publication number (International publication number):2012217970
Application date: Apr. 13, 2011
Publication date: Nov. 12, 2012
Summary:
【課題】卑金属Cuの浄化特性を向上し、特にNOに対して浄化能に優れた排ガス浄化用触媒を提供することを目的とする。【解決手段】金属酸化物からなる担体と、前記担体に担持された金属粒子とを備える排ガス浄化用触媒であって、前記金属粒子がAu及びCuを含むバイメタリッククラスターである、排ガス浄化用触媒。【選択図】図1
Claim (excerpt):
金属酸化物からなる担体と、前記担体に担持された金属粒子とを備える排ガス浄化用触媒であって、前記金属粒子がAu及びCuを含むバイメタリッククラスターである、排ガス浄化用触媒。
IPC (3):
B01J 23/89
, B01D 53/94
, F01N 3/10
FI (3):
B01J23/89 A
, B01D53/36 102B
, F01N3/10 A
F-Term (38):
3G091AA02
, 3G091AA03
, 3G091BA14
, 3G091BA15
, 3G091BA19
, 3G091BA39
, 3G091GB01W
, 3G091GB10X
, 4D048AA06
, 4D048AB02
, 4D048BA03X
, 4D048BA34X
, 4D048BA35X
, 4D048BA41X
, 4D048BB01
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA01B
, 4G169BA28A
, 4G169BA28B
, 4G169BB02A
, 4G169BB02B
, 4G169BC31A
, 4G169BC31B
, 4G169BC33A
, 4G169BC33B
, 4G169CA03
, 4G169CA08
, 4G169CA13
, 4G169DA05
, 4G169EA02Y
, 4G169EB18Y
, 4G169EC27
, 4G169FA02
, 4G169FB09
, 4G169FB15
, 4G169FB30
, 4G169FB45
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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排ガス浄化用の金含有触媒
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平10-548624
Applicant:レイマンコンサルタンシィリミテッド
-
金属触媒及び金属触媒の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-024725
Applicant:田中貴金属工業株式会社
-
化合物超微粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-174650
Applicant:大阪大学長
-
ガス浄化方法,ガス浄化触媒、及び排ガス浄化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-342058
Applicant:株式会社日立製作所
-
高耐熱性触媒及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-431009
Applicant:日産自動車株式会社
-
酸化において使用する触媒
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平6-518745
Applicant:グリゴローヴァボジダラ, パラゾフアタナス, メラージョン, タミルティジェイムズ・アンソニー・ジュード, ガフィンアンソニー・ハロルド
-
可視光活性光触媒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-064162
Applicant:本多崇
-
金含有複合体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-097921
Applicant:株式会社日本触媒
-
高活性触媒およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-179978
Applicant:公立大学法人首都大学東京
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複合クラスタ及びその製造方法、並びにその製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-107414
Applicant:株式会社荏原製作所
-
過剰な酸素を含む内燃エンジンからの排気ガス中のNO▲x▼の還元用合金化金属触媒
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-501134
Applicant:エイエスイーシー・マニュファクチュアリング・カンパニー
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