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J-GLOBAL ID：201203062169712820

反射防止光学構造付き基板および反射防止光学構造付き基板の製造方法

Inventor： 畠山 力三 ,  金子 俊郎 ,  加藤 俊顕 ,  高橋 千春 ,  山崎 雅博 ,  上田 亮
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東北大学 ,  エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
Agent (2)： 須田 篤 ,  楠 修二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010203141
Publication number (International publication number)：2012058584
Application date： Sep. 10, 2010
Publication date： Mar. 22, 2012
Summary：

【課題】耐久性に優れた微細構造より構成される反射防止表面を有する反射防止光学構造付き基板および反射防止光学構造付き基板の製造方法を提供する。【解決手段】基板表面上に微細な円錐形状やピラミッド状を有する突起を配置する際に、それらの微細な突起の頂部を円弧状に繋げることにより、表面接触等による破損を低減でき、機械的強度が向上できる。また、このような連続突起が配置された基板は、基板表面にメタンガスなどの炭化水素ガスをプラズマ中で分解して形成されるカーボンナノウオールを成長させ、それらの形状をエッチング加工などにより基板表面に転写することにより作製できる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基板表面上に円錐形状やピラミッド状を有する微細な突起が配置された反射防止光学構造付き基板であって、前記微細な突起の頂部が円弧状に繋がった連続突起を配置して成ることを、特徴とする反射防止光学構造付き基板。

IPC (3)：

G02B 1/11 ,  B82B 1/00 ,  B82B 3/00

FI (3)：

G02B1/10 A ,  B82B1/00 ,  B82B3/00

F-Term (4)：

2K009AA01 ,  2K009BB06 ,  2K009CC01 ,  2K009DD04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 非平面上単粒子膜の製造方法、該単粒子膜エッチングマスクを用いた微細構造体の製造方法および該製造方法で得られた微細構造体。
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-202500   Applicant：王子製紙株式会社
• スタンパおよび防眩性反射防止物品とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-049034   Applicant：三菱レイヨン株式会社
• 電子源及び電子源の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-112420   Applicant：株式会社NHVコーポレーション
• 光吸収部材
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2006-544760   Applicant：松下電器産業株式会社
• プラズマCVD装置及び成膜方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-325296   Applicant：財団法人高知県産業振興センター, カシオ計算機株式会社
• 集電体及び集電体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-181142   Applicant：石川島播磨重工業株式会社
• 炭素膜の製造装置およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-088813   Applicant：ダイヤライトジャパン株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Realization of an extremely low reflectance surface based on InP porous nanostructures for applicati