Pat
J-GLOBAL ID:200903032470850978

非平面上単粒子膜の製造方法、該単粒子膜エッチングマスクを用いた微細構造体の製造方法および該製造方法で得られた微細構造体。

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007202500
Publication number (International publication number):2009034630
Application date: Aug. 03, 2007
Publication date: Feb. 19, 2009
Summary:
【課題】 本発明は、単粒子膜を構成する各粒子が2次元に最密充填し、高精度に配列した曲面上の単粒子膜エッチングマスクとその製造方法、該単粒子膜エッチングマスクを用いた曲面上の微細構造体の製造方法および該製造方法で得られた高精度な曲面上の微細構造体を提供する。【解決手段】 溶剤中に粒子が分散した分散液を水槽内の液面に滴下する滴下工程と、前記溶剤を揮発させることにより前記粒子からなる単粒子膜を形成する単粒子膜形成工程と、前記単粒子膜を曲面や段差など非平面である部分で面方向のピッチまたは大きさが0.1μm〜10000μmである表面が一部若しくは全部である基板上に移し取る移行工程とを有することを特徴とする非平面上単粒子膜の製造方法である。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
溶剤中に粒子が分散した分散液を水槽内の液面に滴下する滴下工程と、前記溶剤を揮発させることにより前記粒子からなる単粒子膜を形成する単粒子膜形成工程と、前記単粒子膜を曲面や段差など非平面である部分で面方向のピッチまたは大きさが0.1μm〜10000μmである表面が一部若しくは全部である基板上に移し取る移行工程とを有することを特徴とする非平面上単粒子膜の製造方法。
IPC (6):
B01J 19/00 ,  G02B 1/11 ,  B29C 33/38 ,  B29C 59/02 ,  H01L 21/027 ,  B82B 3/00
FI (6):
B01J19/00 K ,  G02B1/10 A ,  B29C33/38 ,  B29C59/02 B ,  H01L21/30 502D ,  B82B3/00
F-Term (36):
2K009AA04 ,  2K009AA12 ,  2K009DD12 ,  2K009EE05 ,  4F202AF15 ,  4F202AG05 ,  4F202AH81 ,  4F202AJ08 ,  4F202AR12 ,  4F202AR20 ,  4F202CA11 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CD02 ,  4F202CD12 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC06 ,  4F209PC07 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  4G075AA24 ,  4G075AA27 ,  4G075BB02 ,  4G075BB10 ,  4G075BC06 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  5F046AA28
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
Show all
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page