インプリント装置、インプリント方法およびデバイス製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：阿部琢磨 , 黒岩創吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011110587
Publication number (International publication number)：2012243863
Application date： May. 17, 2011
Publication date： Dec. 10, 2012
Summary：

【課題】照明系と検出系の配置上の干渉を避け、基板と型に形成されたマークを同時に検出する検出系の検出開口数を上げて、基板と型のアライメント精度を向上させることができるインプリント装置を提供する。【解決手段】本発明のインプリント装置は、パターンが形成された型を用いて、基板に供給されたインプリント材にパターンを転写するインプリント装置であって、受光素子と、基板に形成されたマークと型に形成されたマークに光を照射し、基板に形成されたマークと型に形成されたマークから反射した光を受光素子に導く検出系と、リレー光学系と、を備え、リレー光学系は型を介してマークから反射した光をリレー光学系と検出系の間で結像させ、検出系はリレー光学系が結像させた光を受光素子に導くことを特徴とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

パターンが形成された型を用いて、基板に供給されたインプリント材に前記パターンを転写するインプリント装置であって、受光素子と、前記基板に形成されたマークと前記型に形成されたマークに光を照射し、前記基板に形成されたマークと前記型に形成されたマークから反射した光を前記受光素子に導く検出系と、リレー光学系と、を備え、前記リレー光学系は前記型を介して前記マークから反射した光を前記リレー光学系と前記検出系の間で結像させ、前記検出系は前記リレー光学系が結像させた光を前記受光素子に導くことを特徴とするインプリント装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , B29C 59/02

FI (4)：

H01L21/30 502D , G03F7/20 521 , H01L21/30 525R , B29C59/02 Z

F-Term (21)：

4F209AA43 , 4F209AA44 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AH36 , 4F209AH73 , 4F209AP06 , 4F209AR07 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PN06 , 4F209PN09 , 4F209PN13 , 4F209PQ11 , 5F146AA31 , 5F146FA16 , 5F146FA20 , 5F146FB01 , 5F146FB08 , 5F146FB09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

位置合わせ方法、インプリント方法、位置合わせ装置、及び位置計測方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-108341 Applicant：キヤノン株式会社
特開平2-191314
インプリントリソグラフィ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-204211 Applicant：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.

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