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J-GLOBAL ID：201303016643746567

インプリントモールドの製造方法

Inventor：
法元 盛久

About 法元 盛久


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (3)： 皿田 秀夫 ,  米田 潤三 ,  太田 昌孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011153708
Publication number (International publication number)：2013021153
Application date： Jul. 12, 2011
Publication date： Jan. 31, 2013
Summary：
【課題】 生産性の高いインプリントモールドの製造方法を提供する。【解決手段】 フォトリソグラフィを用いて凹凸構造が形成されたマスターモールドの一方の面と第1基板の一方の面の間に被転写材料を介在させて、前記マスターモールドの凹凸構造を反転させた第1反転凹凸構造を有する第1転写層を形成する第1転写層形成工程と、前記第1転写層と前記マスターモールドを離し、前記第1転写層を備えた前記第1基板を得る第1剥離工程と、を含み、前記マスターモールドの一方の面の外形で規定されるエリアSmと、前記第1基板の一方の面の外形で規定されるエリアSpを対比した場合、エリアSmがエリアSpを物理的に包含する関係にあるように構成する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
フォトリソグラフィを用いて凹凸構造が形成されたマスターモールドの一方の面と第1基板の一方の面の間に被転写材料を介在させて、前記マスターモールドの凹凸構造を反転させた第1反転凹凸構造を有する第1転写層を形成する第1転写層形成工程と、 前記第1転写層と前記マスターモールドを離し、前記第1転写層を備えた前記第1基板を得る第1剥離工程と、を含み、 前記マスターモールドの一方の面の外形で規定されるエリアSmと、前記第1基板の一方の面の外形で規定されるエリアSpを対比した場合、エリアSmがエリアSpを物理的に包含する関係にあることを特徴とするインプリントモールドの製造方法。
IPC (4)：
H01L 21/027 ,  B29C 33/38 ,  B29C 59/02 ,  B81C 99/00
FI (4)：
H01L21/30 502D ,  B29C33/38 ,  B29C59/02 Z ,  B81C99/00
F-Term (21)：
3C081CA23 ,  3C081CA37 ,  3C081DA46 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AJ01 ,  4F202AJ08 ,  4F202CA09 ,  4F202CA19 ,  4F202CB29 ,  4F202CD02 ,  4F202CD05 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PG01 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA32
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (6)
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