プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：西澤利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011180960
Publication number (International publication number)：2013045814
Application date： Aug. 22, 2011
Publication date： Mar. 04, 2013
Summary：

【課題】より再現性よく安定してエッチング対象物の特定の局所的な特定の領域のみをプラズマエッチング加工することが可能なプラズマエッチング技術を提供する。【解決手段】吸引型かつドライエッチング型のプラズマエッチング装置は、エッチング対象物2を固定し、三次元方向に移動可能なステージ3と、一方の端部が、ステージ3に固定されたエッチング対象物2に対向して設置されるプラズマ発生管8と、プラズマ発生用電源10と、このプラズマ発生用電源10に接続され、プラズマ発生管8の外側と内側に配置される一対のプラズマ発生用電極9と、プラズマ発生管の他方の端部に連結される排気管を有する排気装置11,12とを備え、プラズマ発生管8両端の圧力および圧力差、プラズマの発光並びにプラズマ中に含まれる反応生成物の種類とその量のうちの少なくともいずれかを計測する計測手段と、該計測手段からの情報に基づきプラズマの発生状態を制御するコンピュータ14を有する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

少なくとも、エッチング対象物を固定し、三次元方向に移動可能なステージと、一方の端部が、ステージに固定された処理対象物に対向して設置されるプラズマ発生管と、プラズマ発生用電源と、該プラズマ発生用電源に接続され、プラズマ発生管の外側および内部に配置されるプラズマ発生用電極と、プラズマ発生管の他方の端部に連結される排気管を有する排気装置とを備えた吸引型のプラズマエッチング装置において、プラズマ発生管両端の圧力および圧力差、プラズマの発光並びにプラズマ中に含まれる反応生成物の種類とその量のうちの少なくともいずれかを計測する計測手段と、該計測手段からの情報に基づきプラズマの発生状態を制御する制御手段を有することを特徴とするプラズマエッチング装置。

IPC (1)：

H01L 21/306

FI (1)：

H01L21/302 101E

F-Term (12)：

5F004BA03 , 5F004CA02 , 5F004CA03 , 5F004CA05 , 5F004CB01 , 5F004CB02 , 5F004CB04 , 5F004DA00 , 5F004DA01 , 5F004DA26 , 5F004DB01 , 5F004DB25

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

吸引型プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-215159 Applicant：株式会社三友製作所
大気圧プラズマ生成方法および装置並びに表面処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-169010 Applicant：セイコーエプソン株式会社
エッチング方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-092115 Applicant：日本電気株式会社

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