極端紫外光源装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (3)：宇都宮正明 , 渡部温 , 柳瀬睦肇
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2008104280
Publication number (International publication number)：2009259447
Patent number：5312837
Application date： Apr. 14, 2008
Publication date： Nov. 05, 2009
Claim (excerpt)：

【請求項1】ターゲット物質にレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生するレーザ励起プラズマ方式の極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、前記チャンバ内の所定のプラズマ発生位置にターゲット物質のドロップレットを供給するターゲット供給手段と、前記ターゲット供給手段によって前記プラズマ発生位置に供給されるターゲット物質のドロップレットに対してレーザビームを照射することにより発生するプラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、唯1つのコイルを用いて前記プラズマ発生位置に磁場を形成する磁場形成手段と、前記チャンバの1つの面に配置され、荷電粒子を回収するための回収配管と、前記チャンバ内に滞留している荷電粒子を前記回収配管に導く排気ポンプと、を具備し、前記コイルと前記回収配管との間に前記プラズマ発生位置が配置されている、極端紫外線光源装置。

IPC (2)：

H05G 2/00 ( 200 6.01) , H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (2)：

H05G 1/00 K , H01L 21/30 531 S

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

極端紫外光源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-097037 Applicant：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
極端紫外光光源装置および極端紫外光発生方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-179288 Applicant：ウシオ電機株式会社
デブリ軽減システムを有するリソグラフィ装置、デブリ軽減システムを有するEUV放射線発生源、及びデブリを軽減させる方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2006-546878 Applicant：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.

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Cited by examiner (8)

極端紫外光源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-097037 Applicant：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
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デブリ軽減システムを有するリソグラフィ装置、デブリ軽減システムを有するEUV放射線発生源、及びデブリを軽減させる方法
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