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J-GLOBAL ID:201403075476945564

ビーム量測定機能に優れたイオンビーム分析装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 戸川 公二
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2009047165
Publication number (International publication number):2010203805
Patent number:5489032
Application date: Feb. 27, 2009
Publication date: Sep. 16, 2010
Claim (excerpt):
【請求項1】 イオンビーム(B)を出射可能なビーム出射装置(1)と;前記出射されたイオンビーム(B)を真空雰囲気下で試料(S)直近まで導入するビーム導入部(2)と;ビーム透過性およびX線透過性を有する薄膜(31)とそれを取り囲むX線遮断性を有する枠部(32)とから成り、前記ビーム導入部(2)の終端部に配設されて前記薄膜(31)を通してイオンビーム(B)を大気雰囲気下に取り出せるビーム取出窓(3)と;大気雰囲気側に設けられて、前記ビーム取出窓(3)から取り出したイオンビーム(B)の照射位置に試料(S)を固定するための試料固定部(4)と;前記ビーム導入部(2)の終端部に設けられたX線測定室(22)内に検知部(51)が配置され、イオンビーム(B)が照射されたときに試料(S)から放出されるX線を検出するX線検出器(5)と;同じく前記ビーム導入部(2)のX線測定室(22)内に検知部(71)が配置され、イオンビーム(B)がビーム取出窓(3)を通過するときに薄膜(31)から放出されるX線を検出してその強度を測定できるX線強度測定器(7)とを含んで構成され、 前記ビーム出射装置(1)とビーム取出窓(3)とを、イオンビーム(B)が薄膜(31)の枠近傍位置を通過するように配設すると共に、前記X線強度測定器(7)の検知部(71)を、前記薄膜(31)のビーム通過点近傍の枠部(32)外側に配置することによって、イオンビーム(B)の照射により試料(S)から放出されるX線を前記枠部(32)で遮断しつつ薄膜(31)からのX線だけを検出して、そのX線強度からビーム量を測定可能としたことを特徴とするビーム量測定機能に優れたイオンビーム分析装置。
IPC (1):
G01N 23/225 ( 200 6.01)
FI (1):
G01N 23/225
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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