Pat
J-GLOBAL ID:201503002640890971
193nmレーザーを使用する固体レーザーおよび検査システム
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人YKI国際特許事務所
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2015514074
Publication number (International publication number):2015524080
Application date: May. 17, 2013
Publication date: Aug. 20, 2015
Summary:
改良されたレーザーシステムおよび関連する技術は、1064nmに近い基本真空波長から、約193.368nmの紫外線(UV)波長を発生させる。好適な実施形態は、入力波長の未消費の部分を少なくとも一段階に分割し、別の段階での使用のためにその未消費の部分を向け直す。改良されたレーザーシステムおよび関連する技術は、産業において現在使用されているそれよりも、より安価で、より長寿命のレーザーをもたらす。これらのレーザーシステムは、簡単に入手可能で、比較的安価な部品によって構築され得る。
Claim (excerpt):
約193.368nmの波長光を発生させるためのレーザーシステムであって、
約1064nmの対応する波長を有する基本振動数を発生させるように構成された基本波レーザーと、
前記基本振動数を下方変換し、前記基本振動数の半高調波であるOP出力を発生させるように構成された光パラメトリック(OP)モジュールと、
第5の調和振動数を発生させるために、前記OPモジュールの未消費の基本振動数を使用するように構成された第5の高調波発生器モジュールと、
前記約193.368nmの波長光を有するレーザー出力を発生させるために、前記第5の調和振動数と前記OP出力とを結合するための振動数混合モジュールと、を含む、レーザーシステム。
IPC (10):
G02F 1/39
, G01N 21/956
, G01N 21/84
, H01S 5/00
, H01S 3/067
, H01S 3/10
, H01S 3/00
, G02F 1/37
, G03F 7/20
, G03F 1/84
FI (10):
G02F1/39
, G01N21/956 A
, G01N21/84 E
, H01S5/00
, H01S3/067
, H01S3/10 Z
, H01S3/00 F
, G02F1/37
, G03F7/20 521
, G03F1/84
F-Term (54):
2G051AA51
, 2G051AA56
, 2G051AB02
, 2G051BA05
, 2G051BA10
, 2G051BB09
, 2G051BB11
, 2G051BB15
, 2G051CA01
, 2G051CB01
, 2G051CC09
, 2G051CC11
, 2H195BD04
, 2H195BD05
, 2H197CA06
, 2H197CA07
, 2H197HA03
, 2H197JA18
, 2K102AA06
, 2K102AA07
, 2K102AA08
, 2K102AA32
, 2K102BA18
, 2K102BB02
, 2K102BC01
, 2K102BC02
, 2K102BD09
, 2K102DA06
, 2K102DA09
, 2K102DA10
, 2K102DA20
, 2K102DC07
, 2K102DC08
, 2K102DD05
, 2K102DD06
, 2K102DD10
, 2K102EB06
, 2K102EB12
, 2K102EB20
, 5F172AE03
, 5F172AE09
, 5F172AF02
, 5F172AF06
, 5F172AM08
, 5F172NN05
, 5F172NN13
, 5F172NN14
, 5F172NR14
, 5F172NR22
, 5F172NR24
, 5F172ZZ04
, 5F173AB34
, 5F173AH12
, 5F173AH28
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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光源装置、半導体露光装置、レーザー治療装置、レーザー干渉計装置およびレーザー顕微鏡装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-089635
Applicant:株式会社ニコン
-
深紫外レーザー光の発生方法および深紫外レーザー装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-271429
Applicant:株式会社メガオプト
-
レーザ光発生装置およびレーザ光発生方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-226286
Applicant:国立大学法人大阪大学
-
半導体製造装置および半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-025890
Applicant:株式会社日立製作所
-
光源装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-283766
Applicant:株式会社ウシオ総合技術研究所
-
波長変換光学系及び紫外レーザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-174164
Applicant:株式会社ニコン
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光源装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-347097
Applicant:株式会社ウシオ総合技術研究所
-
深紫外光源及び、その深紫外光源を用いたマスク検査装置及び露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-026282
Applicant:レーザーテック株式会社
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