病原菌および害虫の駆除方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：須田篤 , 楠修二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2016046397
Publication number (International publication number)：2016171792
Application date： Mar. 10, 2016
Publication date： Sep. 29, 2016
Summary：

【課題】OHラジカルを効率良く生成することができ、病原菌および害虫の駆除効果に優れた、病原菌および害虫の駆除方法ならびに病原菌および害虫の駆除装置を提供する。【解決手段】水ミスト等の水を反応容器2に導入し、ガス供給部3からプラズマとなるガスを反応容器2に供給し、反応容器2に配設された陰極電極5と陽極電極6との間に電圧を印加してガスを放電すると共にOHラジカルを発生し、OHラジカルを被殺菌物又は被殺虫物に照射して病原菌又は害虫を駆除する。ガスを、空気、ヘリウム、アルゴンの何れか、又は該ガスの混合物とする。水ミストの供給量またはガスの供給量を制御することによりOHラジカルの発生量を制御してもよい。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

水を反応容器に導入し、ガス供給部からプラズマとなるガスを前記反応容器に供給し、前記反応容器に配設された陽極電極と陰極電極との間に電圧を印加して前記ガスを放電すると共にOHラジカルを発生し、前記OHラジカルを照射して病原菌又は害虫を駆除することを特徴とする病原菌および害虫の駆除方法。

IPC (6)：

A01M 1/00 , A01N 59/00 , A01P 3/00 , A01P 7/02 , A01P 7/04 , H05H 1/24

FI (6)：

A01M1/00 Z , A01N59/00 Z , A01P3/00 , A01P7/02 , A01P7/04 , H05H1/24

F-Term (37)：

2B121AA16 , 2B121AA20 , 2B121DA70 , 2B121EA26 , 2B121EA30 , 2B121FA15 , 2G084AA13 , 2G084AA25 , 2G084BB21 , 2G084CC03 , 2G084CC07 , 2G084CC08 , 2G084CC34 , 2G084DD01 , 2G084DD12 , 2G084DD13 , 2G084DD25 , 2G084DD31 , 2G084DD32 , 2G084EE16 , 2G084FF12 , 2G084FF32 , 2G084GG02 , 2G084HH02 , 2G084HH17 , 2G084HH19 , 2G084HH20 , 2G084HH32 , 2G084HH34 , 2G084HH42 , 4H011AA01 , 4H011AC01 , 4H011BB18 , 4H011DA22 , 4H011DC12 , 4H011DD03 , 4H011DE17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

プラズマ滅菌処理装置及びプラズマ滅菌処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-333134 Applicant：松下電工株式会社
殺虫殺菌方法及び殺虫殺菌装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-079096 Applicant：堀勝, 伊藤昌文, NUエコ・エンジニアリング株式会社
低温プラズマ発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-355845 Applicant：野村電子工業株式会社, 株式会社ヲサメ工業

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