Art

J-GLOBAL ID：201702256527542644   Reference number：17A0865303

Negative Pattern Formation in Positive Resist Layer by EB / UV Hybrid Lithography

EB/UV複合リソグラフィによるポジ型レジスト層中へのネガ調パターンの形成

Author (3)： Nakano Hiroki (Nagaoka University of Technology) ,  Takahashi Kenta (Nagaoka University of Technology) ,  Kawai Akira (Nagaoka University of Technology)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 29  Issue： 4  Page： 603-606(J-STAGE)  Publication year： 2016 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： resist ,  pattern formation ,  *electron beam lithography ,  *lithography ,  *novolak ,  Electronics
Semi thesaurus term： negative resist ,  pattern generation ,  positive resist ,  *ultraviolet lithography ,  bio electronics

Author keywords (6)： electron beam lithography ,  photolithography ,  photoresist ,  atomic force microscopy (AFM) ,  surface roughness ,  EB/UV hybrid lithography

JST classification (3)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Radiation polymer chemistry  (CG03050S) ,  Phenol resins  (YH07030X)

Reference (5)：

• 1. W. M. Moreau, "Semiconductor lithography: principle and materials" New York Plenum, (1988).
• 2. K. Reimer, U.Hofmann, M.Jurss, W.Pilz, H.J. Quenzer and B. Wagner, Proc. SPIE, 3226 (1997) 2.
• 3. Y. Choi, T. King, C. Hu, IEEE Trans. Electron Devices, 49 (2002) 436.
• 4. A. Oshima, S.Ikeda, T.Seguchi, Y. Tabata, Radiat. Phys. Chem., 49 (1997) 279.
• 5. J. Gehring, Radiat. Phys. Chem., 57 (2000) 361.

Terms in the title (4)： EB ,  リソグラフィ ,  ポジ型レジスト ,  ネガ