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J-GLOBAL ID:201801003385103490   Update date: Jul. 16, 2024

Nomoto Junichi

ノモト ジュンイチ | Nomoto Junichi
Affiliation and department:
Research field  (1): Electric/electronic material engineering
Research theme for competitive and other funds  (3):
  • 2021 - 2024 透明導電膜の高移動度発現に対する点欠陥の影響と光によるその制御技術に関する研究
  • 2014 - 2016 ZnO 系透明導電膜のキャリア輸送に対する構造の影響とその制御技術に関する研究
  • 2012 - 2015 Hydrogen gas sensors having high sensitivity achieved by control of chemical states of adsorbed oxygen species
Papers (88):
  • Junichi Nomoto, Takashi Koida, Iwao Yamaguchi, Hisao Makino, Yuuki Kitanaka, Tomohiko Nakajima, Tetsuo Tsuchiya. Over 130 cm2/Vs Hall mobility of flexible transparent conductive In2O3 films by excimer-laser solid-phase crystallization. NPG Asia Materials. 2022
  • Takashi Koida, Junichi Nomoto. Effective mass of high-mobility In2O3 -based transparent conductive oxides fabricated by solid-phase crystallization. Physical Review Materials. 2022
  • Claudia Barone, Jeetendra Gupta, Rodica M. Martin, Ihor Sydoryk, Valentin Craciun, Junichi Nomoto, Hisao Makino, Tetsuya Yamamoto, Catalin Martin. Robust Stability of Optical and Electronic Properties of Gallium-Doped Zinc Oxide Thin Films to Gamma Ray Irradiation. physica status solidi (b). 2021. 259. 8. 2100469-2100469
  • Junichi Nomoto, Hiroaki Matsui, Iwao Yamaguchi, Tomohiko Nakajima, Tetsuo Tsuchiya. Origin of simultaneous enhancement of work function and carrier concentration in In2O3 films by excimer-laser irradiation. Applied Physics Letters. 2021
  • Yamamoto Tetsuya, Nomoto Junichi, Makino Hisao, Nakajima Tomohiko, Tsuchiya Tetsuo. Chemical-bonding states of ZnO films containing residual Ar atoms. JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2021. 2021.1. 2953-2953
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MISC (3):
Patents (6):
Education (3):
  • 2010 - 2013 Kanazawa Institute of Technology
  • 2008 - 2010 Kanazawa Institute of Technology
  • 2004 - 2008 Kanazawa Institute of Technology College of Engineering Department of Electrical and Electronic Engineering
Professional career (1):
  • 博士(工学) (金沢工業大学)
Work history (4):
  • 2021/07 - 現在 産業技術総合研究所 製造技術研究部門 研究員
  • 2018/04 - 2021/06 産業技術総合研究所 先進コーティング技術研究センター 研究員
  • 2016/04 - 2018/03 Kochi University of Technology Research Institute of KUT
  • 2013/04 - 2016/03 Kochi University of Technology Research Institute of KUT
Awards (5):
  • 2018/11 - 日本電子材料技術協会 第 55 回 日本電子材料技術協会秋期講演大会 優秀賞 直流アークプラズマを用いるイオンプレーティングにより作製した 高 c 軸配向 AlN 薄膜
  • 2016/11 - 応用物理学会 結晶工学分科会 第5 回 結晶工学未来塾 結晶工学分科会発表奨励賞 多結晶 Al 添加 ZnO 透明導電膜における成長初期状態と配向秩序形成
  • 2015/12 - 日本MRS 第25 回 日本MRS 年次大会 奨励賞 The Characteristics of Structural Properties of Polycrystalline Al-doped ZnO Films by Direct Current Magnetron Sputtering using Various Al2O3 Contents in Ceramic Targets
  • 2015/03 - 応用物理学会 第37 回 (2014 年秋季) 応用物理学会講演奨励賞 クリティカルレイヤーを用いたスパッタ Al 添加 ZnO 透明導電膜キャリア輸送制御
  • 2010/12 - International Display Workshops General Incorporated Association IDW'10 (The 17th International Display Workshops) Best Poster Paper Award Effects of Superimposing RF Power on the Preparation of Impurity-Doped ZnO Transparent Electrodes by DC Magnetron Sputtering
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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