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J-GLOBAL ID：202003002343323740
露光装置および露光方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
廣幸 正樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2019051679
Publication number (International publication number)：2020154099
Application date： Mar. 19, 2019
Publication date： Sep. 24, 2020
Summary：
【課題】平面的に作成された露光パターンデータをそのまま曲面上に露光すると露光パターンは歪んでしまう。【解決手段】曲面を有し感光材が塗布された被露光体上に露光パターンデータを露光する露光装置であって、 前記被露光体上の露光位置の曲面に応じて前記露光パターンデータを補正した補正露光パターンデータを作製する制御部と、 前記補正露光パターンデータに応じた照射パターンを照射する露光部と、 前記被露光体と前記露光部の位置を5軸移動させるマニュピュレータ部とを有することを特徴とする露光装置は、予め歪を織り込んだ補正露光パターンデータを作製し照射パターンとして露光するので、曲面上にも歪のない露光パターンを得ることができる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
曲面を有し感光材が塗布された被露光体上に露光パターンデータを露光する露光装置であって、
前記被露光体上の露光位置の曲面に応じて前記露光パターンデータを補正した補正露光パターンデータを作製する制御部と、
前記補正露光パターンデータに応じた照射パターンを照射する露光部と、
前記被露光体と前記露光部の位置を5軸移動させるマニュピュレータ部とを有することを特徴とする露光装置。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (17)：
2H197AA05
, 2H197AA21
, 2H197AA41
, 2H197CC05
, 2H197CD02
, 2H197CD12
, 2H197CD15
, 2H197CD17
, 2H197CD18
, 2H197CD43
, 2H197DA03
, 2H197DA04
, 2H197EA15
, 2H197EA17
, 2H197EA19
, 2H197EB21
, 2H197EB23
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