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J-GLOBAL ID：200903067903092680

リソグラフィ装置および電子機器

Inventor：
木下 真言

About 木下 真言


Applicant, Patent owner：
リコーマイクロエレクトロニクス株式会社

About リコーマイクロエレクトロニクス株式会社


Agent (1)： 黒田 壽
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999110348
Publication number (International publication number)：2000305279
Application date： Apr. 19, 1999
Publication date： Nov. 02, 2000
Summary：
【要約】【課題】 高密度実装及び電子機器の小型化に対応して、ワークとして例えば筺体の底面などの水平面に回路パターンを形成することに加えて、水平面以外の面、たとえば側面などの鉛直面や曲率部を有する曲面等に、回路パターンを形成することが可能なリソグラフィ装置を提供する。また、筺体の壁面に直接回路パターンを形成して、この回路パターンにチップコンデンサなどのチップ部品等を実装することによって、プリント基板をなくし、さらに、高密度実装化、放熱性の向上、組立のコストダウンが可能な電子機器を提供する。【解決手段】 リソグラフィ装置1は、投影装置10によって作成した回路パターン像を被写体たる筺体2の内壁面に照射結像させるものである。筺体2の側面等への照射を可能とするために、投影装置10自体を揺動させることができるように、3軸(X、Y、Z軸)の投影揺動装置20を備えている。また、筺体2を揺動させるために、2軸(X、Y軸)のワーク揺動装置30を備える。
Claim (excerpt)：
レジスト層に光像を照射して回路パターンを形成するリソグラフィ装置であって、ワークの平面、または、曲率部を有する曲面に形成されたレジスト層に光像を照射して、回路パターンを形成することが可能な投影手段を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
IPC (2)：
G03F 7/24 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/24 Z ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 515 Z
F-Term (22)：
2H097AA03 ,  2H097AA16 ,  2H097AB05 ,  2H097AB06 ,  2H097BB03 ,  2H097CA06 ,  2H097CA17 ,  2H097GB02 ,  2H097LA09 ,  2H097LA10 ,  2H097LA15 ,  5F046AA05 ,  5F046AA06 ,  5F046AA20 ,  5F046BA03 ,  5F046BA07 ,  5F046CA03 ,  5F046CB02 ,  5F046CB18 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (29)
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