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J-GLOBAL ID:202403007418187309
単層膜、複合体、ガス分離材、フィルター、ガス分離装置および複合体の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
弁理士法人特許事務所サイクス
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2018501808
Publication number (International publication number):2022136330
Patent number:7454755
Application date: Feb. 24, 2017
Publication date: Sep. 15, 2022
Claim (excerpt):
【請求項1】多孔質担体と、中間層と、ゲル化性高分子粒子と、を順に有する複合体であって、前記ゲル化性高分子粒子は、塩基性官能基か酸性官能基の少なくとも一方を有するモノマーを含むモノマー成分を重合してなり、前記中間層が、ポリジメチルシロキサン、シリカ多孔質微粒子、フュームドシリカまたはゼオライト微粒子で構成されている、複合体。
IPC (7):
B01D 69/12 ( 200 6.01)
, B01D 69/10 ( 200 6.01)
, B01D 71/40 ( 200 6.01)
, B01D 71/70 ( 200 6.01)
, B01D 71/02 ( 200 6.01)
, B01D 53/22 ( 200 6.01)
, B01D 69/02 ( 200 6.01)
FI (7):
B01D 69/12
, B01D 69/10
, B01D 71/40
, B01D 71/70
, B01D 71/02
, B01D 53/22
, B01D 69/02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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ガス分離膜およびガス分離装置
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Application number:特願2014-071101
Applicant:TDK株式会社
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プラズマ処理炭酸ガス分離膜の製法
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Application number:特願平5-230975
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Application number:特願2012-155925
Applicant:富士フイルム株式会社
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Applicant:株式会社ルネッサンス・エナジー・リサーチ
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Application number:特願2011-164622
Applicant:富士フイルム株式会社
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Application number:特願2013-062657
Applicant:富士フイルム株式会社
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複合分離膜
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Application number:特願2011-042707
Applicant:公益財団法人地球環境産業技術研究機構
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高分子膜及びその利用
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Application number:特願2008-328539
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ガス・蒸気分離用液体膜及びその製造方法、ガス・蒸気膜分離装置
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Applicant:国立大学法人新潟大学
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