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J-GLOBAL ID：200902223813414105   整理番号：08A0243002

エタンハイドレート内部に誘起されたエチルラジカルに関する研究

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著者 (5件)： 南郷興平 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  竹家啓 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  菅原武 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  谷篤史 (大阪大 大学院理学研究科) ,  大垣一成 (大阪大 大学院基礎工学研究科)
資料名： ESR応用計測  (ESR応用計測研究発表会講演要旨集)
巻： 22  ページ： 21  発行年： 2005年12月17日 
JST資料番号： L1155A  ISSN： 0918-6824  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 標記γ線照射ラジカルの熱安定性を調べた。エタンハイドレートにγ線を照射すると,ハイドレート内部にエチレンラジカルと水素原子が誘起される。大気圧下ではエタンハイドレートの相平衡温度(240.8K)以上の温度領域においてESRスペクトルの減衰が観測された。熱安定性の一致から,エタンハイドレートが安定に存在する温度では,エチルラジカルはハイドレートのMケージ内で安定に存在していると考えられる。ここで,エチルラジカルはMケージ内で自由に回転運動している。ラジカル消失反応の反応速度には濃度依存性がなく,消失反応は1次反応であることが示唆された。これはメタンハイドレート中のメチルラジカルの消失反応が2次であるとの報告と対照的である。活性化エネルギーはハイドレートが分解する際のエンタルピー変化と一致しており,エチレンラジカルの熱安定性とエタンハイドレートの熱安定性に相関関係があることが示唆される。

シソーラス用語： *ガスハイドレート ,  *γ線照射 ,  *ラジカル ,  *熱安定性 ,  減衰 ,  活性化エネルギー ,  アルカン ,  *ESR【磁気共鳴】

分類 (1件)： 有機化合物のEPR  (BM07024U)

物質索引 (1件)： エタン

タイトルに関連する用語 (5件)： エタン ,  ハイドレート ,  誘起 ,  エチルラジカル ,  研究