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文献
J-GLOBAL ID：201002280773496256
整理番号：10A0896692 極微細加工用高分子薄膜のイオン化ダイナミクス
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岡本一将
(北大 大学院)
, 岡本一将
(理研)
, 田島康晴
(北大 大学院)
, 田島康晴
(理研)
, 古澤孝弘
(大阪大 産科研)
, 古澤孝弘
(理研)
, 初井宇記
(理研)
, 住吉孝
(北大 大学院)
資料名：
第4回XFEL利用ワークショップ 平成22年
第4回XFEL利用ワークショップ 平成22年 について
ページ： 10 発行年： 2010年
JST資料番号： N20101754 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
シソーラス用語：
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*イオン化
, イオン化 について
*微細加工
, 微細加工 について
*高分子薄膜
, 高分子薄膜 について
半導体プロセス
, 半導体プロセス について
極端紫外線
, 極端紫外線 について
フォトリソグラフィー
, フォトリソグラフィー について
光源
, 光源 について
時間分解分光法
時間分解分光法 について
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*極微細加工
極微細加工 について
分類 (1件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス製造技術一般
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
(NC03030V)
固体デバイス製造技術一般 について
タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
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微細加工
, 微細加工 について
高分子薄膜
, 高分子薄膜 について
イオン化
, イオン化 について
ダイナミクス
ダイナミクス について
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